Wydział Automatyki Elektroniki i Informatyki
Wyznaczanie szerokości przerwy energetycznej w półprzewodniku metodą termiczną
Informatyka, sem.2, gr.2, sekcja 10
Sebastian Gaś
Kornel Grzywocz
Marek Nowak
1. Wprowadzenie.
Mechanizm powstawania prądu w półprzewodnikach jest tłumaczony popularnie w oparciu o znany z fizyki model pasmowy krystalicznego ciała stałego, którego struktura jest regularną, przestrzenną siatką atomów lub jonów (atomów pobudzonych). Odległości między atomami są w nim bardzo niewielkie, porównywalne ze średnicami zewnętrznych orbit elektronów. Elektrony w atomach mogą zajmować pewne dozwolone poziomy energetyczne, ale w przypadku braku wzajemnego oddziaływania tych atomów, poziomy energetyczne orbit w różnych atomach mogą być jednakowe. W ciele stałym, na skutek wzajemnego oddziaływania blisko położonych względem siebie atomów, dozwolone poziomy energetyczne, które w poprzednim przypadku miałyby jednakowe wartości energii, tutaj zostają przesuwane tworząc pasma energetyczne dozwolone. Pojedyncze poziomy w paśmie mogą być - zgodnie z zasadą - obsadzane przez co najwyżej dwa elektrony. W modelu energetycznym ciała stałego jest szereg pasm złożonych z pojedynczych poziomów. Najwyżej położone pasmo całkowicie zapełnione (obsadzone prze parzystą liczbę elektronów) nazywa się pasmem podstawowym (walencyjnym). Powyżej tego pasma leży pasmo przewodnictwa, oddzielone obszarem strefy zabronionej (pasma). Pasmo przewodnictwa może być nie zapełnione lub częściowo zapełnione. Górne poziomy pasma podstawowego, a także poziomy pasma przewodnictwa, zapełniają elektrony znajdujące się na zewnętrznych orbitach atomów. Elektrony te biorą udział w procesach przewodzenia prądu w ciałach stałych. Przejścia elektronów między pasmami wymaga pobrania (do góry) lub oddania (do dołu) większych niż poprzednio porcji energii cieplnej lub innej np. promienistej. Pobudzenie elektronów do przejścia na wyższe poziomy energetyczne, do innego pasma, może stać się przyczyną powstania promieniowania w ciele stałym. Elektron taki, przy przejściu powrotnym przez pasmo zabronione, wydziela energię obserwowaną jako promieniowanie.
W modelach pasmowych półprzewodników i dielektryków przyjmuje się, że pasmo przewodnictwa w temperaturze zera bezwzględnego jest nie zapełnione. Główna różnica obu modeli polega na różnych szerokościach pasma zabronionego. Szerokość energetyczną, tak samo jak energię elektronów mierzy się w elektronowoltach. W półprzewodnikach szerokość energetyczna pasma zabronionego jest mniejsza od dwóch elektronowoltów (2 eV). Dielektryki (izolatory) odznaczają się większą szerokością pasma zabronionego. W półprzewodnikach mających węższe pasmo zabronione już w zakresie temperatury pokojowej (300 K), a nawet poniżej, pewna część elektronów przechodzi do pasma przewodnictwa pozostawiając miejsca nie obsadzone w paśmie podstawowym. Miejsca nie obsadzone, odpowiadające brakowi elektronów (ładunków ujemnych), mogą być z kolei zajmowane przez inne elektrony znajdujące się na niższych poziomach w paśmie, oczywiście po odpowiednim pobudzeniu. Proces pojawiania się elektronów w paśmie przewodnictwa i wolnych miejsc w paśmie podstawowym pod wpływem działania temperatury nazywa się generacją termiczną par dziura - elektron. Dziurą nazywa się dodatni nośnik ładunku, będący brakiem elektronu.
Liczbę nośników w ciałach stałych wyraża się za pomocą gęstości lub koncentracji (liczby nośników na jednostkę objętości). Owa koncentracja par dziura - elektron ustala się w określonej temperaturze dzięki procesowi odwrotnemu do generacji zwanym rekombinacją.
Ponieważ ilość elektronów w paśmie przewodnictwa zależy od temperatury, więc ich koncentrację nośników określa zależność :
n = n0 exp(-) (1)
p = p0 exp(-) (2)
gdzie:
k - stała Boltzmana,
T - temperatura w skali bezwzględnej,
E - energia aktywacji zależna od rodzaju materiału i stopnia domieszkowania.
Dla półprzewodnika samoistnego energia aktywacji elektronów i dziur są jednakowe i równe połowie szerokości przerwy energetycznej.
Dla półprzewodnika domieszkowanego, przykładowo typu n, do pasma przewodnictwa wzbudzane są elektrony z poziomów donorowych. Zależność koncentracji elektronów w paśmie przewodnictwa od temperatury jest wówczas analogiczna do równania (1), z tym że ΔEn jest zbliżona do różnicy energii między poziomem donorowym a pasmem przewodnictwa.
Tak więc związek między przewodnictwem elektrycznym półprzewodnika a temperaturą można, niezależnie od jego typu, wyrazić równaniem :
δ = δ0 exp(-) (3)
gdzie
E jest odpowiednią dla danego półprzewodnika energią aktywacji.
Z równania (3) wynika, że :
R = R0 exp()
ln() =
co oznacza, że wykres zależności ln() = f() dla półprzewodnika powinien być linią prostą, której nachylenie zależy właśnie od energii aktywacji.
2. Stanowisko pomiarowe.
W skład stanowiska pomiarowego wchodzą : element półprzewodnikowy (termistor typu NTC o ujemnym współczynniku temperaturowym), termometr, cyfrowy omomierz, grzejnik sterowany napięciem z autotransformatora i wentylator umożliwiający schłodzenie wcześniej podgrzanego elementu. W układzie tym miarą gęstości nośników ładunków generowanych termicznie w termistorze jest odwrotność jego oporu.
3. Przebieg pomiarów.
Doświadczenie polegało na wykonaniu pomiarów rezystancji termistora (za pomocą cyfrowego omomierza) w zależności od jego temperatury, która odczytywana była na termometrze. Całe ćwiczenie składało się z 70 pomiarów w zakresie temperatury od 25° C do 200° C, przy założonym 5-cio stopniowym skoku temperatury. Pierwsze 36 pomiarów zarejestrowanych zostało podczas podgrzewania termistora w grzejniku, zaś pozostałe 36 podczas jego schładzania za pomocą wentylatora.
4. Pomiary.
T |
R1 |
R2 |
°C |
Ω |
Ω |
25 |
12600 |
12800 |
30 |
8600 |
10500 |
35 |
6990 |
8770 |
40 |
6350 |
7330 |
45 |
5140 |
6120 |
50 |
4140 |
5120 |
55 |
3370 |
4300 |
60 |
2770 |
3630 |
65 |
2360 |
3080 |
70 |
2000 |
2630 |
75 |
1690 |
2240 |
80 |
1450 |
1920 |
85 |
1240 |
1630 |
90 |
1060 |
1400 |
95 |
926 |
1200 |
100 |
803 |
965 |
105 |
703 |
875 |
110 |
618 |
750 |
115 |
543 |
651 |
120 |
476 |
591 |
125 |
422 |
554 |
130 |
375 |
475 |
135 |
331 |
404 |
140 |
294 |
353 |
145 |
263 |
313 |
150 |
233 |
279 |
155 |
209 |
248 |
160 |
188 |
217 |
165 |
170 |
201 |
170 |
154 |
179 |
175 |
138 |
160 |
180 |
124 |
144 |
185 |
112 |
129 |
190 |
103 |
113 |
195 |
88.3 |
96 |
200 |
81.2 |
81.2 |
Średnia rezystancja w temperaturze pokojowej R0 = 12700 Ω.
5. Opracowanie wyników.
Metodą regresji liniowej otrzymano następujące współczynniki prostej:
A1 = (3942 ±14) []
B1 = (-3.88 ±0.04) [J]
Metodą regresji liniowej otrzymano następujące współczynniki prostej:
A2 = (4012 ±31) []
B2 = (-3.87 ±0.09 ) [J]
Otrzymane współczynniki A1 i A2 są proporcjonalne do energii aktywacji badanego półprzewodnika.
A =
k - stała Boltzmanna (1.38066.10-23 [ ] )
E - energia aktywacji
Aśr = (3953 ±13) []
E = (5.46 ±0.02).10-20 [J]
E = (3.41 ±0.02).10-1 [eV]
6. Podsumowanie i wnioski.
Uzyskane wyniki można uznać za zadowalające. Największy błąd nie przekracza 0.6%. Ewentualne błędy pomiaru były spowodowane błędami odczytu szybko zmieniającej się temperatury oraz rezystancji, której błąd odczytu dochodził do kilku jednostek.
- 5 -