background image

III. Diody półprzewodnikowe 

 

1

III. Diody półprzewodnikowe 

 

Wstęp

 

Podział złączy

 

• 

złącza p-n, w którym styk tworzą  obszary   

p oraz n z tego samego materiału 
półprzewodnikowego, np. krzemu, 

• 

złącza m-s, w których w kontakcie 

pozostają obszary półprzewodnika i metalu, 

• 

heterozłącza, w których pozostają w 

kontakcie dwa różne materiały 
półprzewodnikowe, (Ge – Si) 

• 

struktura MIS (metal–izolator–półprzewodnik) 

 

 
 
 

 

 

p-n

m-s

MIS

diody

Schottky

tranzystory

polowe

Praktyczne wykorzystanie złączy

diody

Schottky

tranzystory

polowe

 

Rys. 3.1 

ch – ki 

i(u)

 

ch – ki 

C(u)

 

background image

III. Diody półprzewodnikowe 

 

2

Technologia złącza p-n 

 

„ 

Zależność N

D

, N

A

 = f(x)

 

10

18

10

17

10

16

10

15

x

j

N

A

x

N

D

N

A

(baza)

x

j

[cm

-3

]

N

D

,N

A

baza

( )

( )

j

A

j

D

x

N

x

N

=

x

dx

dN

j

D

N

D

 

Rys. 3.3 

x

Si, typ p, N

A

 = 10

15

 cm

-3

a)

b)

Rys. 3.2

 

background image

III. Diody półprzewodnikowe 

 

3

Złącze niespolaryzowane (u = 0) 

 

Rys. 3.4 

obszar ładunku przestrzennego 

obszar opróżniony złącza 
obszar przejściowy 
warstwa zaporowa złącza 

 

 

 

 

    napięcie kontaktowe 

napięcie dyfuzyjne 
napięcie bariery 
napięcie wbudowane 

 

2

i

D

A

T

B

n

N

N

ln

U

U

=

 

   (3.2) 

 

dla S

i

 w temperaturze 300K →         

mV

700

U

B

 

n

p

<<

p

n

<<

2

i

n

np

=

P

P

N

N

Warstwa zaporowa

U

B

Rys. 3.5

 

background image

III. Diody półprzewodnikowe 

 

4

p

n

-x

n

x

p

x

x

-x

n

x

p

x

p

Q

-x

n

obszar

neutralny

obszar

neutralny

U

B

D

N

q

warstwa

zaporowa

A

N

q

E

mx

E

x

a)

b)

c)

U

N

A

 

• 

Słuszna jest zależność  

p

D

n

A

x

N

x

N

=

 

   (3.4) 

• 

Grubość obszarów opróżnionych 

B

B

D

A

D

A

0

n

U

~

U

N

q

N

N

N

2

x

+

εε

=

  

(3.6a) 

 

B

B

A

D

D

A

0

p

U

~

U

N

q

N

N

N

2

x

+

εε

=

  

(3.6b) 

   

B

p

n

U

~

,

x

 

Rys. 3.6

 

background image

III. Diody półprzewodnikowe 

 

5

Złącze spolaryzowane 

 

Kierunek

przewodzenia

Kierunek

zaporowy

 

Rys. 3.7 

• 

Kierunek zaporowy 

• 

Kierunek przewodzenia 

E

I

u

U

+ E

E

I

d

-I

u

U

- E

a)

b)

I

nu

I

pu

I

pd

I

nu

I

pu

I

nd

N

P

N

P

 

Rys. 3.8 

(

)(

)

u

U

N

N

qN

N

2

X

B

D

A

D

A

0

n

+

εε

=

 

~

u

U

B

      (3.7a) 

 

(

)

u

U

N

)

N

N

(

q

N

2

X

B

A

d

A

D

0

p

+

εε

=

 

~

u

U

B

         (3.7b) 

 

u

U

~

,

x

B

p

n

 

 

 

 

 
 

background image

III. Diody półprzewodnikowe 

 

6

Charakterystyka statyczna i(u) złącza idealnego

 

• 

złącze skokowe 

• 

jednowymiarowy charakter zjawisk w złączu 

• 

niski poziom wprowadzania 

• 

pole elektryczne występuje tylko w warstwie zaporowej  

• 

rezystywność obszarów neutralnych = 0 

• 

brak procesów gen.– rekomb. w obszarze ładunku przestrz. 

• 

nie występują efekty przebicia 

 

złącze idelane

Gdy warunki te są spełnione

 

 

„ 

Wzór na statyczną charakterystykę prądowo – napięciową i(u) złącza 
idealnego ma postać 

 

 

 
 

 

 

 

 

 

 

 

 
gdzie:   

• 

potencjał termiczny  

q

kT

U

T

=

     (3.9) 

• 

prąd nasycenia  



+

=

D

p

p

A

n

n

2

i

S

N

L

D

N

L

D

n

S

q

I

 

 

        (3.10) 

• 

dla złącza  

p+n

   

D

p

p

2

i

S

N

L

D

n

S

q

I

=

   

 

        (3.11) 

p+n    

Dla krótkiej bazy 

L

p

 → W

n

 

 

 

• 

Można napisać, że:  

2

i

S

n

S

~

I

 

 

 

 

        (3.12) 

 

 

 

S

I

(nanoampery, pikoampery) 

Model wielkosygnałowy 

statyczny 

B

u

A

i

⎟⎟

⎜⎜

=

1

U

u

exp

I

i

T

S

(3.8)

 

background image

III. Diody półprzewodnikowe 

 

7

„ 

Postać graficzna modelu 

• 

Skala log-lin (przykład liczbowy)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Rys. 9 

• 

Charakterystyka odcinkowo – liniowa

 

U

p

i

u

100

i

max

max

i

U

p

i

u

U

p

i

u

a)

b)

c)

α

α

 

Rys. 3.10 

„ 

Uproszczenia 

•  dla  

T

U

4

u

  

:  

T

S

U

u

exp

I

i

=

 

  (3.13a) 

błąd < 1-2% 

 
•  dla 

T

U

4

u

  

s

I

i

=

    (3.13b) 

 

„ 

Inercja elektryczna

 

• 

Pojemność dyfuzyjna (C

d

 

  

T

S

d

U

I

i

C

+

τ

=

 czyli 

 

i

~

C

d

   (3.14) 

-I

S

background image

III. Diody półprzewodnikowe 

 

8

• 

Pojemność złączowa (C

j

)

 

 

 

 

B

U

u

0

j

j

1

C

C

=

  

    

             

 

(3.16) 

 

 

 

 

C

j0

=C(u = 0)

 

 

Zależność graficzna pojemności od napięcia na złączu 

C

j

(0)

u

C

j

C

d

U

p

C

d

C

j

 

Rys. 3.11 

Wielkosygnałowy dynamiczny model diody p-n 

• 

postać symboliczna 

u

)

u

(

i

t

i

j

C

d

C

 

Rys. 3.12 

• 

postać analityczna 

 

( )

(

)

dt

du

C

C

u

i

i

d

j

t

+

+

=

 

 

background image

III. Diody półprzewodnikowe 

 

9

Parametry małosygnałowe idealnego złącza p-n 

 

Jak wynika z rozdz. 1 mały przyrost prądu 

I

a

 

diody opisanej wzorem                

i

A

 = f(u

AB

)

 wokół pkt. pracy o współrzędnych 

(I

0

,U

0

)

 jest równy różniczce 

funkcji opisującej zależność i od u. 

 

ab

P

a

U

du

di

I

=

   

 

 

 

 

(3.19) 

 

gdzie przewodność dyfuzyjna: 

 

 

 

 

 

T

S

0

I

T

S

U

,

I

d

U

I

I

U

I

i

du

di

g

0

0

0

+

=

+

=

=

  

(3.20) 

 

 

 

 

 

np.: dla I

0

=1mA, T=300K,  

g

d

=40mS, r

d

=25Ω

 

 

Rezystancja dyfuzyjna: 

 

   

 

d

d

g

1

r

=

   

 

 

 

 

 

(3.21) 

 

Przy polaryzacji zaporowej  

 

 

 

 

I

= -I

S  

→  g

= 0

 

 

 

 

 

(3.22) 

 

W analizie małosygnałowej konduktacja (rezystancja) dyfuzyjna może być 
przedstawiona za pomocą rezystora liniowego. 

d

g

a

I

ab

U

A

B

 

 

 

 

 

 

Rys. 3.13 

A zatem dla małych amplitud sygnału harmonicznego można zapisać 

 

 

 

 

a

d

ab

I

r

U

=

   

 

 

 

(3.23) 

Konduktancja dyfuzyjna opisuje związek między 

U

ab

 oraz 

I

a

 

jaki ustali się po         

czasie >> 

τ

p

 

i τ

n

.

 

• 

model małosygnałowy dla w. cz.

 

ab

U

a

I

t

I

j

C

d

C

A

B

d

g

dj

I

 

 

   

 

 

 

Rys. 3.14 

background image

III. Diody półprzewodnikowe 

 

10

 Stąd 
 

   

 

(

)

j

d

d

C

C

j

g

Y

+

ω

+

=

 

   (3.24) 

 

 gdzie 

 

 

0

d

I

~

C

 

 

   

 

( )

B

0

j

j

U

U

1

0

C

C

=

 

 

dla przedstawionego modelu zachodzą związki  

 

   

 

j

d

a

t

I

I

I

+

=

   

 

 

 

 

(3.25a) 

 

   

 

ab

t

U

Y

I

=

   

 

 

 

 

(3.25b) 

 

   

(

)

ab

2

j

d

2

2

d

t

U

C

C

g

I

+

ω

+

=

   (3.25c) 

 

Właściwości diod rzeczywistych

 

„ 

Liniowy rozkład domieszek

 

 

• 

szerokości obszaru opróżnionego

 

 

(

)

3

B

3

B

0

u

U

~

u

U

a

q

12

d

εε

=

 

   (3.26) 

• 

pojemności złączowej 

3

B

0

j

j

U

u

1

C

C

=

   

 

 

 

 

(3.27) 

„ 

Wysoki poziom wprowadzania (WPW)

 

Dla WPW

:  

T

ws

nU

U

exp

I

i

=

 

   (3.28) 

 

gdzie:  

n>1

,    

I

ws 

>> I

S

,  1 < n < 2 

 

Inny stosowany opis: 

 

T

H

S

U

u

exp

I

/

i

1

I

i

+

=

    (3.29) 

 

gdzie 

I

H

 – tzw. prąd kolana (prąd graniczny) 

 

Jeżeli 

i >> I

H

 wówczas: 

 

T

U

2

u

exp

~

i

 

 

tzn. 

n = 2

 we wzorze (3.28) 

 

background image

III. Diody półprzewodnikowe 

 

11

„ 

Rezystancja szeregowa diody

 

 

s

r

2

1

s

r

2

1

 

Rys. 3.15 

⎟⎟

⎜⎜

=

1

U

i

r

u

exp

I

i

T

S

S

   

 

 

 

(3.31) 

 

⎟⎟

⎜⎜

+

+

=

1

I

i

ln

U

ir

u

S

T

S

 

  (3.32) 

• 

dla przypadku stałoprądowego

 

AB

u

s

r

A

i

B

A

 

Rys. 3.16 

• 

dla małego sygnału 

(po zróżniczkowaniu zależności (3.32)) 

ab

U

s

r

a

I

B

A

d

r

 

Rys. 3.17 

„ 

Procesy generacji i rekombinacji nośników w warstwie 
zaporowej złącza
 

• 

generacja

 – dla kierunku zaporowego, dodatkowa składowa prądu 

generacyjnego. 

)

u

(

d

n

g

i

i

G

=

    (3.34) 

 

⎟⎟

⎜⎜

kT

2

W

exp

u

U

~

i

0

g

B

G

  

  

 

(3.35) 

• 

rekombinacja

 – dla kierunku przewodzenia część nośników w obszarze 

bariery rekombinuje, stąd dodatkowa składowa prądu rekombinacyjnego 

I

R

 wynosi: 

T

RS

R

mU

u

exp

I

i

=

 

   (3.37) 

background image

III. Diody półprzewodnikowe 

 

12

„ 

Zjawiska przebić złącza

 

• 

zjawisko Zenera 

• 

zjawisko jonizacji zderzeniowej 

 

(powielanie lawinowe 

→ 

gdy duże napięcie) 

0

w

i

M

i

=

   

 

 

 

 

(3.39) 

gdzie: 

i

w

 – prąd wsteczny w zakresie powielania lawinowego 

i

0

 

– prąd przy braku powielania 

M

 – współczynnik powielania  lawinowego (formalnie też zjawisko  

       Zenera) o postaci: 

 

η

⎟⎟

⎜⎜

=

Z

U

u

1

1

M

   

 

 

 

 

(3.40) 

 
U

Z

 – napięcie przebicia  przy którym prąd 

→ ∞ 

 

 

η   – zależy od rodzaju złącza 

( )

6

,

2

η

 

 

10mA

u

Definicja

formalna

i

Definicja

praktyczna

Z

U

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Rys. 3.18 

 

Podsumowanie diod rzeczywistych

 

• 

Kierunek zaporowy 

 

(

)

u

i

S

G

CW

I

I

i

M

i

0

+

+

=

4

8

47

6

   (3.50) 

background image

III. Diody półprzewodnikowe 

 

13

U

Z

i

u

!

i

CW

i

G

I

S

 

Rys. 17 

•  Kierunek przewodzenia 

I

II

III

lni

1

n

,

nU

i

r

U

exp

I

i

T

s

WS

>

=

T

S

U

u

exp

I

i

=

1

m

,

mU

u

exp

I

i

T

RS

>

=

u

A

kilkaset

μ

H

I

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Rys. 3.20 

• 

Model małosygnałowy 

A

j

C

d

r

d

C

B

Dioda

idealna

d

L

s

r

o

C

 

Rys. 3.21 

 

background image

III. Diody półprzewodnikowe 

 

14

Wpływ temperatury

 

 

„ 

Charakterystyka wsteczna

 

 

(

)

[

]

0

Z

0

Z

Z

T

T

1

U

U

β

+

=

 

  (3.42) 

 

 

Z

β

<0 – Przebicie Zenera 

Z

β

>0 – przebicie lawinowe  

Z

β

≈ 0 dla u ≈ 6V 

Β

≈ 10

-3 

K

-1 

≈ const. – dla diod o napięciu przebicia U

Z

>20V 

20V

10

-3

K

-1

Z

β

ok. 6V

 

Rys. 23 

2

0

g

G

G

iG

kT

2

W

dT

di

i

1

=

=

γ

 

 

 

 

 

(3.43) 

 

dla krzemu (T = 300 K) →       

8

iG

γ

1

K

%

 

 

   

 

 

 

2

go

S

S

IS

kT

W

dT

dI

I

1

=

=

γ

 

 

 

 

 

(3.44) 

 

 

„ 

Kierunek przewodzenia

 

 
 
 
 
 

 

 

 

T

go

U

U

u

exp

A

i

=

    (3.47) 

T

0

g

U

U

u

A

i

ln

=

 

stąd:    

 

go

U

A

i

ln

q

kT

u

+

=

 

 
 

background image

III. Diody półprzewodnikowe 

 

15

Ostatecznie: 

T

U

u

A

i

ln

q

k

T

u

0

g

=

=

 

Graficzna interpretacja zależności 

 

A

i

ln

q

k

T

u

=

i

3

i

2

i

1

u

T

 

Rys. 3.24 

 

-2mV/K

kilka %/K

i

T>T

O

T

U

u

T

u

go

.

const

i

=

=

I

O

T

O

u

 

Rys. 3.25 

background image

III. Diody półprzewodnikowe 

 

16

„ 

Parametry małosygnałowe

 

 

T

S

0

d

U

I

I

g

+

=

 

 

d

d

g

C

τ

=

 

 

Pojemność  

B

0

j

j

U

/

u

1

C

C

=

 zależy od temperatury poprzez 

 

2

i

D

A

B

n

N

N

ln

q

kT

U

=

 

 

Dopuszczalna temperatura złącza 

 

P

R

T

T

th

a

j

+

=

 

 

 

   

 

 

th

a

max

j

max

R

T

T

P

=

 

background image

Zasady analizy układu z elementami 

półprzewodnikowymi 

 

A) Obliczanie składowej stałej napięcia/prądu 

 

Usunąć źródła zmiennoprądowe 

 

U

m

, I

m

 = 0 

 

B) Obliczanie składowej zmiennej napięcia/prądu 

 

Model małosygnałowy układu (zasada tworzenia): 

 

elementy nieliniowe układu zastępujemy odpowiednimi modelami 

małosygnałowymi tych elementów 

 

zwieramy źródła napięcia stałego 

 

rozwieramy źródła prądu stałego  

 

pozostałe elementy pozostawiamy bez zmian   

 

 

Przykład 
• 

Analizowany układ nieliniowy 

 

D

1

D

2

U

0

U

1

sin 

2

t

I

1

sin 

1

t

I

0

C =

C =

R

1

2

1

●  ad. A

     ●  ad. B (przypadek m.cz.)

D

1

D

2

R

1

U

0

I

0

I

1

sin 

1

t

U

1

sin 

2

t

r

d1

r

d2

R

1

1

2

3

1

2

3

3

2

1

 


Document Outline