Specjalne technologie
otrzymywania substancji
amorficznych
Metoda CVD
reakcje w
fazie gazowej
Metoda zol – żel
reakcje
w fazie
ciekłej
Otrzymywanie substancji
amorficznych poprzez reakcje z
fazy gazowej (CVD)
Surowce wyjściowe w formie ciekłej
dozowane do palnika plazmowego
Przejście w stan pary (SiCl
4
, TiCl
4
, GeCl
4
)
Reakcje w fazie gazowej (hydrolizy lub
utlenienia):
SiCl
4
+ 2H
2
O
SiO
2
+ 4HCl
SiCl
4
+ O
2
SiO
2
+ 2Cl
2
Osadzanie par produktów reakcji (SiO
2
) na
zimnym podłożu (zeszklenie) –
warstwy
amorficzne, włókna światłowodowe.
Chemiczne osadzanie z fazy gazowej
(CVD)
APCVD (Atmospheric Pressure CVD) -
metoda realizowana przy ciśnieniu
atmosferycznym,
LPCVD (Low Pressure CVD) - metoda
realizowana przy obniżonym ciśnieniu,
PACVD (Plasma - Assisted CVD) -
metodę CVD wspomaganą plazmowo,
LCVD (Laser - induced CVD) - metodę
CVD wspomaganą laserowo,
MOCVD (Metal-Organic CVD) - z
zastosowaniem związków
metaloorganicznych
,
Etapy procesu CVD prowadzące do
tworzenia się produktu
transport gazowej mieszaniny reakcyjnej
do przestrzeni reaktora.
dyfuzja reagentów do podłoża z
przepływającej ponad nim mieszaniny
reakcyjnej.
adsorpcja jednego lub więcej substratów
na powierzchni podłoża.
aktywacja zaadsorbowanych regentów i
ich wzajemna reakcja prowadząca do
powstania stałego produktu.
nukleacja (powstawanie
najmniejszych kryształów) i wzrost
warstwy zachodzący w rezultacie
dyfuzji powierzchniowej stałego
produktu powstałego w wyniku
reakcji chemicznej na powierzchni
podłoża.
desorpcja gazowych produktów
reakcji z powierzchni podłoża i ich
dyfuzja do strumienia gazów
przepływających nad podłożem
Jakie parametry wpływają na proces
CVD ??
rodzaj reagentów;
szybkość przepływu reagentów
nad podłożem;
temperatura podłoża;
rodzaj i struktura podłoża;
ciśnienie i rodzaj gazów w
reaktorze CVD;
geometria układu źródło-podłoże;
Otrzymywanie substancji
amorficznych poprzez reakcje w
fazie ciekłej (zol-żel)
Podstawowe reakcje chemiczne
hydroliza (1)
Si(OR)
4
+H
2
O (OR)
3
SiOH
+ ROH
polikondensacja (2)
(OR)
3
SiOH + HOSi(OR)
3
(OR)
3
Si-O-Si(OR)
3
+ H
2
O (2)
O C
2
H
5
S i
C
2
H
5
O
O C
2
H
5
O C
2
H
5
+
O C
2
H
5
S i
C
2
H
5
O
O H
O C
2
H
5
H
2
O
+
C
2
H
5
O H
O C
2
H
5
S i
C
2
H
5
O
O H
O C
2
H
5
+
O C
2
H
5
S i
O H
O C
2
H
5
O C
2
H
5
S i
C
2
H
5
O
O C
2
H
5
O C
2
H
5
S i
O H
O C
2
H
5
O
+
H
2
O
O C
2
H
5
Hydroliza
+
O R
S i
R O
O R
O R
+ H
+
+
S i
O
R O
O R
O R
R
H
S i
O
R O
O R
O R
R
H
+
+ H
2
O
S i
O H + R O H
R O
O R
O R
H
+
w
środowisku
kwaśnym
pH < 7
Kondensacja
O C
2
H
5
S i
C
2
H
5
O
O H
O C
2
H
5
+
O C
2
H
5
S i
C
2
H
5
O
O H
O C
2
H
5
O C
2
H
5
S i
C
2
H
5
O
O C
2
H
5
O C
2
H
5
S i
O H
O C
2
H
5
O
+
C
2
H
5
O H
O
S i
O
O H
O C
2
H
5
+
O
S i
O H
O H
O
S i
O C
2
H
5
S i
O H
O
+
H
2
O
O
O
O
O
O
S i
O
O C
2
H
5
+
O
S i
O H
O H
O
S i
O C
2
H
5
S i
O H
O
+
O
O
O
O
O C
2
H
5
C
2
H
5
O H
O
S i
O
O
+
O
S i
O H
O
O
S i
O
S i
O
O
+
O
O
O
O
O H
H
2
O
Otrzymywanie substancji
amorficznych poprzez reakcje w
fazie ciekłej (zol-żel)
Podstawowe przemiany
fizyczne:
roztwó
r
zol
żel
szkło
Otrzymywanie substancji
amorficznych poprzez reakcje w
fazie ciekłej (zol-żel)
Przemiany fizyczne:
żel
szkło
40 – 250
o
C usuwanie
wody i rozpuszczalnika;
250 – 400
o
C utlenianie
części organicznych;
400 – 1000
o
C usuwanie
grup OH, zagęszczanie
struktury;
Zastosowanie metody zol-żel
Zastosowanie metody zol-żel
otrzymywanie cienkich powłok o
różnych własnościach;
otrzymywanie włókien
nieorganicznych;
otrzymywanie materiałów amorficznych
i krystalicznych gęstych i porowatych
Metoda stosowana wówczas gdy
tradycyjna hutnicza metoda
topienia zawodzi!!!!
• otrzymywanie materiałów amorficznych o
składach, strukturze, mikrostrukturze i innych
cechach, których uzyskanie metodą tradycyjnego
topienia jest bardzo trudne, albo wręcz
niemożliwe;
• bazowanie na mieszaninach cieczy, w których
jest możliwa homogenizacja na skalę
molekularną;
• otrzymywanie produktu końcowego o najwyższej
czystości (materiały wyjściowe o bardzo wysokiej
czystości chemicznej);
• obniżona temperatura otrzymywania różnych
typów materiałów; możliwość ominięcia likwacji
czy krystalizacji podczas syntezy;
Zalety metody zol-żel
Zalety metody zol-żel
• wytwarzanie nie tylko szkieł – także cienkich
warstw na różnych podłożach, folii szklanych,
materiałów włóknistych (niska temperatura
formowania prostota metody):
– możliwość wprowadzenia wielu pierwiastków w
szkliste, krystaliczne lub szklanokrystaliczne
struktury powłoki
– doskonała chemiczna adhezja do podłoża,
szczególnie do szkła;
– elastyczność odmian chemicznych kompozycji, z
możliwością otrzymania materiałów o szczególnych
własnościach jak zmienna optyka, różne
elektromechaniczne i mechaniczne charakterystyki
Wady metody
• nietypowość materiałów wyjściowych, a co za
tym idzie wysoka cena;
• trudności technologiczne związane z
otrzymaniem wolnych od spękań szkieł
monolitycznych, pozbawionych grup OH ,
• wszystkie procesy zol-żel są nieodwracalne i
niemożliwe do całkowitego zahamowania w
czasie;