Obraz01 (7)

I. rattlsr. >. ■Iiiiłlalt 4• raili lania. 3. ai a . i • I »l l la tfari*

wogo) przesyła się do kolumny destylacyjnej. W kolumnie tej następuje odwodnianie kwasu octowego, który po taj operacji, wraz z rozpuszczonym katalizatorom, zawraoa się do proceeu. Ciekły produkt reakcji odbierany z reaktora ochładza się, po czym poddaje filtracji oddzielając kryształy surowego kwasu tereftalowego. Kryształy przemywa się wodę i suszy w suszarce bębnowej otrzymując produkt handlowy o czystości powyżej 99%. Przesącz kieruje eię do kolumny destylacyjnej celem odwodnienia. Selektywność reakcji wynosi ponad 90%. Przedstawiona metoda produkcji kwasu tereftalowego (proces Amocoł Jest obecnie dominujęoę przemysłową metodą otrzymywania tego kwasu.

Otrzymywanie mieszaniny cykloheksanolu i cykloheksanowi przez utlenianie cykloheksenu

Proces utlenienia cykloheksanu do miaezaniny cyklohoksanolu i cykloheksanom! jest' stosowany w przemyśle jako pierwszy etap produkcji kwasu adypinowego lub jako metoda produkcji cykloheksanonu (cykloheksanol poddaje się odwodornieniu uzyskując dodatkowe ilości cykloheksanonu). Cykl ohakaa non i kwa a adypinowy są półproduktami wykorzystywanymi w syntezie poliamidów. ,

Utlenianie cykloheksanu prowadzi się powietrzem w obecności homogenicznego katalizatora - naftenienu kobaltu (lub manganu)' rozpuszczonego w arodowiaku reakcji. Reakcja przebiega w fazie ciekłej, w temp. 150°C, pod ciśnieniem 0,8-1,5 NPai

O-OH

0-rar (§

Wymienione warunki nie zapewniają wystarczająca] selektywności reakcji głównej - w znacznych ilościach tworzą się produkty uboczna, a.in. lak-tony, kwasy karboksylowa (adypinowy, glutarowy oraz bursztynowy) i estry. W nowoczesnych instalacjach utleniania cykloheksanu do środowiska reakcyjnego dodaje alę kwas borowy (w postaci zawiesiny), który zapobiega -przetlenieniu się" produktów reakcji. Produktem pośrednim jest w tym przypadku boran cykloheksylu powstający w reakcji wodoronadtlenku cyklo-hekeylu z kwasem borowymi

3 C«H_łfcOOH • M,BO, -*    <C_aH₄₄0)₃8 • 3 HjOa .    ’ ' *

Boran cykloheksylu jest odporny na utlenienia. Powstawanie boranu cykloheksylu ogranicza przebieg reakcji ubocznych i następczych.

I. c błotnie • . 3. ko la so y r • 11 y 11 l • a y | . I. loainaa,

"•    «oa»#ry rrl«M|f|M

Rys. 171. Schemat instalacji do produkcji cykloheksanolu i cykloheksa-nonu metodą utleniania cykloheksanu

.    * s    'a' f‘

Sohamat instalacji do utleniania cyklohakaanu przadstawiono na rya. 171. Raaktor jest cylindrycznym, poziomym aparatam wialosakcyjnym, zaopatrzonym w urządzania balkotkowa doprowadzająca powietrza. Ciepło reakcji odbiera się przez częściowe odparowanie mieszaniny reakcyjnej, i pe-rowo-gazowej mieszaniny opuszczającej reaktor, po ochłodzeniu, uzyskuje się kondensat cyklohakaanu i wody. Po rozwarstwieniu cykloheksan zawraca się do reaktora. Ciekłą mieszaniną poreakcyjną traktuje się wodą | celu zhydrolizowaifia boranu cykloheksylu. Zawiesinę kwaau borowego odsącza się, po czym produkty organiczne oddziela od warstwy wodnej. Mieszaniną produktów organicznych przesyła się do destylacji oddzielając najpierw nia przareagowany cykloheksan, który zawraca eię do procesu. U drugiej kolumnie uzyskuje się jako destylat mieszaninę cykloheksanolu i cykloh*. ksanonu. Mieszaninę tę przeznacza się bezpośrednio do przerobu na kw*. adypinowy lub wyodrębnia ai« s nlaj poszczególne składniki. | przedstawionej metodzie produkcji. cyk*oheksanolu i cykloheksanonu wymienione produkty powstają w stosunku molowym 9:1. n aalaktywnoac reakcji utlenienia cykloheksanu do tych produktów wynosi ©k. 90%. Stopień przereagowania cyklohakaanu przy jednym przejściu je.t mały i wynosi 12-13%, co

•Ok