86
niekrystalicznym stopem krzemu i GaAs. Jest to zrozumiałe, biorąc pod uwagę, że dawka 1 * 1016 cm-2 daje efekt domieszkowania ok. 1-1021 cm-3. Umieszczenie tak dużej liczby obcych atomów w sieci GaAs może także wprowadzić bardzo silne naprężenia wewnętrzne w tym związku oraz spowodować osłabienie wiązań Ga—As.
Metoda elipsometrii pozwala również kontrolować zmiany na powierzchni półprzewodnika spowodowane jej utlenianiem lub zdefektowaniem.
Elipsometria stała się szczególnie użyteczna do charakteryzacji złożonych związków i heterostruktur tworzonych z pierwiastków Ul grupy (In, Ga, Al) i Y grupy (As, Sb, P). Materiały takie znalazły szerokie zastosowanie w optoelektronice.
Funkcje dielektryczne związków A^Ga^^As, GaAsj.J?* są dobrze znane, a ich charakterystyczne parametry, takie jak pozycje energetyczne krawędzi i maksimów odpowiadających przejściom międzypasmo-wym, zależą od składu x. Dlatego pomiary elipsometryczne pozwalające wyznaczyć przebieg funkcji dielektrycznej są bardzo użyteczne do weryfikacji składu. Rysunek 49 przedstawia zależność e2{hco) dla różnych składów aluminium. Widać, że ze wzrostem wartości x przejścia optyczne i E1 + A1 przesuwają się w kierunku większej energii.
Rys. 49. Zależność spektralna części urojonej funkcji dielektrycznej Al*Ga, dla różnych zawartości aluminium [25]
Znając zależności E1(x) i Et -hdl(x) możemy określić zawartość aluminium.
Badania heterostruktur półprzewodnikowych wykorzystujące elip-sometrię opierają się na metodzie zwanej modelem trzech ośrodków. Odpowiada to najprostszej heterostrukturze, tj. pojedynczej warstwie na podłożu o znanych parametrach. Padające światło przechodzi przez warstwę, której funkcję dielektryczną £, lub grubość dt znamy, a następnie dociera do podłoża.
Dla takiego przypadku parametr p dla warstwy (1) na podłożu (2) w próżni (0) dla kąta padania $, przy założeniu braku warstwy przejściowej między warstwą a podłożem, ma postać [26]
(9-2)
= roiP+ri2Pg'2/,_ l+r0l,rl2te?2' l+^oi/u/'2' r01j + r 12łe'2/M
gdzie: rijp, riJs są współczynnikami odbicia (Fresnela) dla odbicia światła o polaryzacji p i s, odpowiednio na międzypowierzchni między ośrodkami i = 0, 1 oraz j = 1, 2.
Współczynniki Fresnela wyrażamy następująco:
(9.3)
(9.4)
_ £0sin2^—elv/eJ—e0sin2(P
ip £jy/£i — £0sin2# + e, ^/ej—Eo sin2 & ’
_ -Jei—e0 sin2 $—yfs}—£0 sin2 $
>js ^e,—£0sin2<P+ y/Ej—£0sin2^’
gdzie: s0, su s2 — zespolone funkcje dielektryczne dla próżni (0), warstwy (1) i podłoża (2).
Przesunięcie fazowe /? ma postać
(9.5)
P = 2n jy/f,-E0sin2<P,
gdzie X jest długością fali elektromagnetycznej w próżni.
Korzystając z wyrażeń określających funkcję dielektryczną s (9.1) oraz parametr p (9.2), możemy obliczyć efektywną funkcję dielektryczną <8> układu próżnia—warstwa—podłoże. Wyrażenie (9.2) określające p jest szczególnym przypadkiem wzoru dla przypadku wielowarstwowego [20].