- 261
(5.34)
Współczyn n i k sprawności w strzyki wania emitera
i nF. _ InE
Je łnE+1 pE+frEB
Rozpisaliśmy prąd emitera w postaci sumy prądu dyfuzji elektronów J-nE i dziur IpE oraz prądu rekombinacji nośników w warstwie zaporowej złącza emiter--baza IrEB'
Na podstawie teorii złącza p-n (rozdz. 3) oraz uwzględniając związek (5.30a) otrzymuje się zależności na trzy składowe prądu emitera:
J PE ĄT
i
nj UEB
—j-—exp-
JE W£ <PT
1
*AB WB 1
, 1 Mi „r
JrEB web exp ^
(5.35)
(5.36)
(5.37)
przy czym: NDE — koncentracja donorów w emiterze na krawędzi warstwy zaporowej złącza E-B; NAB — koncentracja akceptorów w bazie na krawędzi warstwy zaporowej złącza E-B; WE — szerokość emitera; przyjęto, że WE jest znacznie mniejsze niż droga dyfuzji dziur w emiterze; WEB — szerokość warstwy zaporowej złącza E-B\ r — czas życia nośników.
Dzieląo w (5.34) licznik i mianownik przez InB oraz uwzględniając (5.35) do (5.37) otrzymuje się
(5.38)
(5.38a)
(5.38b)
exp
1
Ke~l +K+L przy czym:
DpB AB Wjj i — e
DnNDE WE y
1 NabWbWeb 1-e-”
2 «/Z)nr y
Otrzymane wyrażenia mają dość rozwlekłą postać, są jednak wystarczająco przejrzyste, by można było na ich podstawie wyciągnąć bardzo istotne wnioski natury ogólnej. Przede wszystkim należy stwierdzić, że jest pożądane, by współczynnik ae miał wartość jak najbliższą 1 (zawsze a„ < 1), tzn. jest pożądane spełnienie warunku (K+L)<ś 1. Składnik L, związany z prądem rekombinacji w warstwie zaporowej złącza E-B, ma istotne znaczenie w przypadku małej koncentracji nośników samoistnych nh czyli należy go uwzględniać w tranzystorze krzemowym, lecz jest do pominięcia w tranzystorze germanowym. Ponadto należy zauważyć, że ten składnik silnie zależy od napięcia UEB, przy czym maleje on w miarę zwiększania poziomu wstrzykiwania nośników (zwiększanie napięcia UEB). Stąd wynika, że wartość współczynnika «e jest coraz większa w miarę zwiększania napięcia UEB, czyli w miarę zwiększania prądu emitera. Przy odpowiednio dużym prądzie emitera składnik L można pominąć w porównaniu ze składnikiem K.