DSCF4049
Rozpuszczanie substratu
i*ilg
i
w formie rozpuszczonej
*wzrost rozpuszczalności f(T, o,)
^mieszanie
Bardzo dobre w przypadku inhibicji substratowe}
W przypadku ograniczonej rozpuszczalności substial występuje maksymalnie vy stężeniu równym stężeniu nasycenia.
Wyszukiwarka
Podobne podstrony:
DSCF4048 Rozpuszczanie substratu * wzrost rozpuszczalności f(T, c,) "mieszanier=f(cs) t w formi
DSCF4036 ROZPUSZCZANIE - proces heterogeniczny pomiędzy ciałem stałym i cieczą, któremu towarzyszy p
DSCF4038 * Rozpuszczanie fizyczne * Rozpuszczanie chemiczne •> towarzyszy temu heterogeniczna rea
DSCF4040 Rozpuszczanie Rozpad siatki krystalicznej na cząsteczki Energia siatki krystalicznej (Struk
DSCF4044 Rozpuszczanie a WARTEWKA => NASYCENIE WARSTEWKI => DYFUZJA DO ROZTWORU
CCI20130725 086 Rys. 6.2. Wpływ stężenia substratu na właściwą szybkość wzrostu bowiem zjawiska inhi
skanuj0002 Do powierzchni warstwy enzymatycznej dyfunduje tlen rozpuszczony w wodzie oraz substrat.
Aktywność wody w środowisku j* Czysta woda ma aktywność aw = 1. Wzrost stężenia związków rozpuszczal
86 _Byd. Biul. Wet. 6(4). 1996 r. Tiamulina 45% w formie granulatu bardzo dobrze rozpuszczalna w wod
skanuj0002 Do powierzchni warstwy enzymatycznej dyfunduje tlen rozpuszczony w wodzie oraz substrat.
DSC00571 Podsumowanie: Wraz ze wzrostem stężenia substancji rozpuszczonej następuje obniżenie prężno
Rozpuszczalniki w stanie pod- i nadkrytycznym CO; nożliwia dogłębną penetrację substratu
105780 01 70 ry obfitując w azot, nie wpływa na wzrost roślin, bo leżąc w ziemi nie butwieje i nie
77129 Zdjęcie0878 Rozpuszczanie substratur«=IU) I w form*lazpuuczonn W prZ)rp*<*aj ogr«mc/or>t
więcej podobnych podstron