3582428701

\VK0rg/4

REAKCJE S_n2, E2, S_n1, El

1.    Szereg nukleofilowości SH”> I “ > CN” > OH^- > N₃” > Br^- > CH₃COO" Cl” > F” > H₂0 > ROH

2.    Grupy opuszczające łatwo — F. HSOF, Br”. CF. H₂0, CH₃S0₃“ (amony silnych kwasów)

trudno — F". CHjCOO". NCT. CH₃S", CH₃0”. HO”. H₂N"(amony słabych kwasów)

Profil energetyczny i struktura

3. Profil ener getyczny i struktura stanu przejściowego

produktu pośredniego

4. Wpływ nukleofila, rzfdowości substratu, rozpuszczalnika i grupy opuszczającej

R-cja	Nu/Z	Budowa substratu	Rozpuszczalnik	Grapa op uszczająca	Temp en tura
	silny nukleofil stężenie	CHj> I rzęd > II rzęd	słabo polarny, najlepiej dipol aury apiotyczny DMF. DMSO, HMPTA	reszta silnego kwasu (trwały anion)
E2	silna zasada	III izęd> II rzęd > I rzęd	mepolarny, słabo polarny	“ n “	podwyższona
SH1	słaby nukleofil	III izęd> II rzęd	polarny, wysoka stała dielektryczna	• i» ■
El	słaby nukleofil lub brak	III izęd > II rzęd	polarny, wysoki stała dielektryczna	•n •	podwyższona

5. Zależność od budowy substratu

CHjX	I rzędowy rch2x	II rzędowy R2ĆHX	III rzędowy RjCX
tylko S»2	S*2 — wszystkie Nu	Sn2—luikleońle słabo zasadowe, np I”, CN”. CHjCOO^-	S»2 - me reaguje
—	E2 — pizestizenme rozbudowane silne zasady. + np f-BuO~K	E2 — silne zasady, np RO", NHj" OH”	E2 —silne zasady
		SkI/EI —solwolizaw rozpuszczalnikach silnie polarnych	SM1 > El w warunkach reakcji solwolizy W wyższych tempeiaturach