lab4!21a B5ARHDHYTXRPWMT7IKAQZHYOGIKH4BOHNAACLDQ


Politechnika Wrocławska

Instytut Techniki Cieplnej

i Mechaniki Płynów

Temat:

Płaski osiowo symetryczny opływ kuli

nr ćw:

4.21

Aneta Radek

Inż. Œrod. rok II gr IV sekcja II

Data wykonania ćwiczenia:

12.04.95

Data i ocena:

Uwagi prowadzącego:

1. Cel ćwiczenia:

Doœwiadczalne i teoretyczne wyznaczenie rozkładu ciœnień na powierzchni kuli opływanej równoległą strugą płynu;

2. Podstawy teoretyczne:

Współczynnik ciœnienia kuli okreœlony jest zależnoœcią:

0x01 graphic
0x01 graphic

Punkty spiętrzenia w tym rozkładzie ( p = 1 ) odpowiadają kątom  = 0O oraz  = 180O, natomiast minimalną wartoœć p osiąga w punktach o współrzędnych kątowych  = 90O oraz  = 270O.

W opływie doœwiadczalnym występują pewne zaburzenia wywołane oddziaływaniem płynu z powierzchnią kuli. Następuje tzw. oderwanie elementu płynu przy warstwie przyœciennej na skutek utraty energii. Położenie punkty oderwania zależy od charakteru przepływu.

Rozkład teoretyczny ciœnienia wyznaczamy ze wzoru:

3. Schemat stanowiska:

4. Przebieg doœwiadczenia i wyniki pomiarów:

Warunki początkowe:

Przykładowe obliczenia dla pomiaru piątego:

A. Wartoœć ciœnienia całkowitego p:


Wyszukiwarka


Podobne podstrony:
Lab4
PRCz Wyklady 19 21a
Lab4
lab4 8
Systemy Operacyjne lab4, Politechnika Wrocławska, Systemy Operacyjne
[4]tabelka, Elektrotechnika AGH, Semestr II letni 2012-2013, Fizyka II - Laboratorium, laborki, labo
lab4 opr
Lab4
lab4 wejściówka
SI LAB4
SI2 lab4 raport
pkm lab4
lab4 przetwSygnCzest a
i9g1s1 wozniak lab4 sd
L4 - pytania, Studia, Wytrzymałość materiałów II, lab4 wm2 studek
lab4 Kwerendy, bazy danych
[4]opracowanie, Elektrotechnika AGH, Semestr II letni 2012-2013, Fizyka II - Laboratorium, laborki,

więcej podobnych podstron