Tematyka wykładów przedmiotu:
III rok EiT
Nowoczesne materiały i technologie w elektronice
Wstęp: Od bakelitu do monolitu - etapy rozwoju technologii układów elektronicznych
Technologia obwodów drukowanych:
- materiały podłożowe, metody obróbki fotochemicznej i mechanicznej, techniki montażu obwodów drukowanych
Mikroelektronika warstwowa:
materiały i procesy technologii grubowarstwowej
materiały i procesy technologii cienkowarstwowej
materiały podłożowe
projektowanie elementów i mikroukładu warstwowego: dane wyjściowe elementu, parametry technologiczne warstwy, algorytmy projektowania rezystorów, elementów przewodzących, pojemności, indukcyjności, itp. oraz całej topologii mikroukładu
III. Technika hybrydowa:
jej celowość i konieczność w pewnym etapie rozwoju mikroelektroniki
metody montażu elementów dołączanych
technika zabezpieczenia i hermetyzacji
problemy cieplne mikroukładów hybrydowych: rezystancja termiczna, naprężenia mechaniczne połączeń
dobór obudowy
Technologia krzemowa monolitycznych mikroukładów scalonych:
szczególne właściwości krzemu i SiO2 oraz nowych półprzewodników
procesy technologiczne: epitaksja, dyfuzja i implantacja domieszek
fotolitografia
cykle produkcyjne układów scalonych
zasady projektowania na przykładzie prostego mikroukładu
skale i możliwości integracji
Nowoczesne metody montażu układów scalonych na MCM (wielowarstwowych
modułach ceramicznych): możliwości komutacyjne modułów (liczba warstw
i wyprowadzeń zewnętrznych (pinów), problemy cieplne z mocą generowaną w mikroukładach, sprzężenia elektromagnetyczne, hermetyczność i niezawodność (procesy fizyczne uszkodzeń)
Technologie krzemowych mikrosystemów elektromechanicznych (MEMs)
Nanotechnologia: nowe zjawiska (kwantowe) i nowe materiały - kolejny etap rozwoju elektroniki w XXI wieku
Przygotował:
Dr inż. Jan Koprowski
Instytut Politechniczny
Tarnów - wrzesień 2007 r.