Złączem p-n nazywa się bryłę półprzewodnika w której można wyróżnić dwa sąsiadujące obszary, przy czym jeden z nich jest typu p a drugi typu n.
Złącze takie uzyskuje się przez odpowiednie rozmieszczenie domieszek donorowych i akceptorowych w półprzewodniku.
Zmiana rodzaju domieszek i ich koncentracja w złączu p-n wzdłuż osi prostopadłej do powierzchni rozgraniczającej obszary może zachodzić w sposób skokowy, wtedy złącza takie są nazywane złączami skokowymi. Zmiana może zachodzić również liniowo i wtedy takie złącza nazywane są złączami liniowymi.
W strefie przejścia istnieją duże gradienty koncentracji dziur i elektronów. Gradient koncentracji dziur jest przyczyną dyfuzji dziur z obszaru typu p do obszaru typu n, a gradient koncentracji elektronów jest przyczyną dyfuzji elektronów z obszaru typu n do obszaru typu p. W wyniku tej dyfuzji w otoczeniu przejścia tworzy się ładunek przestrzenny: po stronie obszaru typu n ładunek dodatni, ponieważ z obszaru typu n odpłynęły ujemne elektrony a pozostały nieskompensowane dodatnie ładunki nieruchomych jonów donorowych oraz przybyły na skutek dyfuzji z obszaru typu p dodatnie dziury, po stronie zaś obszaru typu p w sposób analogiczny tworzy się ładunek przestrzenny ujemny. W obszarze przejścia powstaje dipolowa warstwa ładunku przestrzennego. Elektrony i dodatnie jony donorów oraz rozdzielone dziury i ujemne jony akceptorów wytwarzają w strefie przejścia pole elektryczne przeciwdziałające dyfuzji, cofające z powrotem elektrony i dziury. W strefie przejścia płyną zatem odpowiednie prądy unoszenia, wywołane powstałym polem elektrycznym.
Dipolowa warstwa ładunku przestrzennego istniejąca w strefie przejścia nazywana jest warstwą zaporową złącza p-n. Na rysunku 1 przedstawiony jest rozkład ładunku przestrzennego w warstwie zaporowej złącza skokowego p+-n. Indeks „+” oznacza, że wyróżniony nim obszar ma bardzo dużą konduktywność w stosunku do drugiego obszaru (w tym wypadku konduktywność obszaru p jest znacznie większa od obszaru n).
Rys.1 Rozkład ładunku przestrzennego w warstwie zaporowej złącza skokowego p+-n
Na rysunku dn oznacza głębokość, na jaką warstwa zaporowa wnika w obszar typu n, a dp oznacza głębokość, na jaką warstwa ta wnika w obszar typu p. Warstwa zaporowa wnika zawsze głębiej w obszary o mniejszej koncentracji domieszek.
Niesymetria tego złącza powoduje niesymetrię ładunku przestrzennego w warstwie zaporowej.
Na rysunku 2 został przedstawiony rozkład ładunku przestrzennego występujący w liniowym złączu p-n.
Rys.2 Rozkład ładunku przestrzennego w złączu p-n o liniowym rozkładzie
koncentracji domieszek
Należy zwrócić uwagę na to, że w związku z symetrią rozkładu koncentracji domieszek w obydwu obszarach złącza liniowego, również i rozkład ładunku przestrzennego w warstwie zaporowej jest symetryczny, co oznacza, że głębokość wnikania ładunku przestrzennego w obydwa obszary jest jednakowa.
Rysunek 3 przedstawia rozkład potencjału i pola elektrycznego w symetrycznym złączu skokowym.
Rys.3 Rozkład potencjału i pola elektrycznego występujący w złączu skokowym p-n
o jednakowej koncentracji domieszek w obydwu obszarach złącza
Należy tu wspomnieć o charakterystycznej wielkości określającej właściwości złącza jakim jest napięcie dyfuzyjne UD. Jest ono określone jako całkowity skok potencjału występujący na warstwie zaporowej.
Rysunek 4 przedstawia rozkład potencjału i pola elektrycznego w liniowym złączu p-n.
Rys.4 Rozkład potencjału i pola elektrycznego w liniowym złączu p-n
Literatura:
Z. Korzec, T. Kacprzak „Tranzystory polowe” WNT Warszawa 1984
E. Norman Lurch „Podstawy techniki elektronicznej” PWN 1974
A. Świt, J. Pułtorak „Przyrządy półprzewodnikowe” WNT Warszawa 1979
Warstwa zaporowa
-dp
dn
x
q
qNd
0
-qNa
0
0
V U(x)
q
x
dn
-dp
0
x
x
dn
dp
E(x)
E(o)
UD
UD
E(o)
E
x
0
U
x
d/2
-d/2
0
d