8416073919

2.2.P.03: Inżynieria powierzchni materiałów konstrukcyjnych niemetalowych K. Lukaszkowicz - Politechnika Śląska

Chemiczne osadzanie z fazy gazowej (CVD)

Metody chemicznego osadzania z fazy gazowej (CVD) obejmują osadzanie powłok z udziałem reakcji chemicznych, pod ciśnieniem atmosferycznym lub obniżonym, w temperaturach 300h-1400°C. Chemicznie z fazy gazowej osadza się metale, ceramiki, a także warstwy diamentowe i diamentopodobne. W ten sposób można wytwarzać powłoki z metali, które nie mogą być nanoszone elektrolitycznie, np. trudnotopliwe: wolfram, molibden, niob, tantal, cyrkon, hafn. Połączenie pomiędzy naniesioną powłoką a materiałem podłoża ma charakter dyfuzyjny.

2.2.P.03: Inżynieria powierzchni materiałów konstrukcyjnych niemetalowych K. Lukaszkowicz - Politechnika Śląska

Osadzanie elektrolityczne

Technologia osadzania elektrolitycznego oparta jest na procesie elektrolizy, podczas której ruch ładunków elektrycznych jest wymuszony poprzez podłączenie zewnętrznego źródła prądu do elektrod zanurzonych w ciekłym przewodniku jonowym. W elektrolicie nośnikami ładunków elektrycznych mogą być zarówno jony dodatnie (kationy) jak i ujemne (aniony). Technologia osadzania elektrolitycznego umożliwia pokrywanie powierzchni metalowych oraz z tworzyw sztucznych powłokami stopów metali celem nadania im pożądanych własności (np. antykorozyjnych, dekoracyjnych, magnetycznych, półprzewodnikowych, o podwyższonej twardości, odporności na ścieranie, itp.).