Mechatronika ćw 8, I,II, I, MET, geometryczna, LAB, INSTR


0x08 graphic

0x08 graphic
KIERUNEK Mechatronika

Realizowany w ramach projektu „Politechnika XXI wieku” współfinansowanego ze środków Unii Europejskiej
w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego

ĆWICZENIE NR 8

Pomiary odchyłek geometrycznych nierówności powierzchni

0x08 graphic

0x01 graphic

Projekt Politechnika XXI wieku współfinansowany przez Unię Europejską w ramach Europejskiego Funduszu Społecznego;

Nr umowy UDA-POKL.04.01.01-00-121/09

Pomiary odchyłek geometrycznych nierówności powierzchni

Chropowatość powierzchni jest istotnym czynnikiem pozwalającym ocenić prawidłowość przebiegu procesu obróbki ubytkowej. Z szeregu parametrów chropowatości, w praktyce do bieżącej oceny jakościowej procesów obróbki skrawaniem, najczęściej stosuje się: średnie arytmetyczne odchylenie profilu chropowatości Ra, wysokość chropowatości wg 10 punktów Rz oraz średni odstęp chropowatości Sm. Pozostałych parametrów chropowatości powierzchni używa się najczęściej na etapie weryfikacji poprawności doboru parametrów skrawania w projektowanych procesach, w badaniach naukowych procesów skrawania lub przy specyficznych warunkach oceny jakościowej obrobionych powierzchni. Obecnie w praktyce warsztatowej pomiary tych parametrów wykonuje się najczęściej przy pomocy kompaktowych profilometrów cyfrowych. W pomiarach laboratoryjnych można stosować optyczne techniki pomiarowe pozwalające na pomiary bardzo małych wartości parametrów od 0,03μm dla interferencyjnych metod pomiarowych do bardzo dużych wartości rzędu 2000μm dla metody przekroju świetlnego lub metody cienia. Wadą optycznych technik pomiarowych jest możliwość pomiaru niewielkiej liczby parametrów chropowatości powierzchni zdefiniowanych prostą funkcją arytmetyczną jak Rz, Rm, S, Sm.

0x08 graphic

0x08 graphic
Rys.1 Rysunek do definicji parametrów Rp, Rv, Rm (Rz), Rz

Rys. 2. Rysunek do definicji parametrów Ra i Rq ; a- wg wzorów przybliżonych,

b-wg wzorów dokładnych

Ra - średnie arytmetyczne odchylenie profilu chropowatości - średnia arytmetyczna bezwzględnych odchyleń y (rzędnych) od linii średniej.

0x08 graphic

(1)

0x08 graphic

Rys. 3. Rysunek do definicji parametrów Sm i S

 

0x08 graphic

(2)

Smi - odstęp chropowatości - długość odcinka linii średniej zawierającego wzniesienie i sąsiadujące z nim wgłębienie profilu.

Sm - średni odstęp chropowatości - średnia wartość odstępów chropowatości

Przebieg ćwiczenia

  1. Zapoznać się z konstrukcją, działaniem i podstawowymi parametrami metrologicznymi podwójnego mikroskopu Schmaltza (rys. 4).

  2. Ustawić głowicę pomiarową do pomiaru wysokości tak, aby kresa przerywana zajęła położenie poziome, równoległe do krawędzi szczeliny świetlnej, jak na rys. 5. oraz dobrać do pomiarów podwójny obiektyw o takim powiększeniu, aby w polu widzenia okularu znajdowało się co najmniej pięć wierzchołków i pięć wgłębień zarysu profilu mierzonej chropowatości powierzchni.

  3. Wykonać pomiary wysokości chropowatości w trzech wybranych miejscach pomiarowych badanej powierzchni. W tym celu należy:

0x01 graphic
(3)

0x08 graphic

Rys. 4. Ogólny widok mikroskopu Schmaltza a) położenie głowicy 1 do pomiaru

wysokości chropowatości, b) położenie głowicy 1 do pomiaru odstępu nierówności;

1- głowica pomiarowa, 2 - bęben podziałki okularu, 3 - okular, 4 - blokada głowicy,

5 - zgrubna regulacja ostrości, 6 - korekta położenia przysłony, 7 - blokada regulacji ostrości, 8 - blokada mocowania tubusu mikroskopu, 9 - przełącznik wyboru rodzaju przysłony (metoda przekroju świetlnego/metoda cienia), 10 - blokada mocowania obiektywu,

11 - podwójny obiektyw, 12 - stolik pomiarowy, 13 - mierzona powierzchnia

0x08 graphic

Rys. 5. Widok w okularze mikroskopu Schmaltza przy pomiarze wysokości chropowatości Rz powierzchni metodą przekroju świetlnego

  1. Wykonać pomiary średniego odstępu chropowatości S. W tym celu należy;

Wi - Wi-1 kolejnych odczytów wskazań,

0x08 graphic

0x01 graphic
(5)

  1. Wykonać pomiar metodą stykową przyrządem Penthometer M2

Tab.1. Długość odcinka elementarnego w zależności od wartości parametrów Ra, Rz, Rm

Ra [m]

Rz, Rm [m]

Le [mm]

do 0,025

ponad 0,025 do 0,4

ponad 0,4 do 3,2

ponad 3,2 do 12,5

ponad 12,5 do 100

ponad 100

do 0,10

ponad 0,10 do 1,6

ponad 1,6 do 12,5

ponad 12,5 do 50

ponad 50 do 400

ponad 400

0,08

0,25

0,8

2,5

8,0

25,5

Dobrany odcinek elementarny powinien być co najmniej pięciokrotnie dłuższy od średniego odstępu chropowatości Sm.

Literatura podstawowa

1. Kujan K.; Techniki i systemy pomiarowe w budowie maszyn: laboratorium. Wyd. Politechniki Lubelskiej, Lublin 2004

Literatura uzupełniająca

2. Instrukcja obsługi Penthometer M2

3. Malinowski J.; Jakubiec W. Metrologia wielkości geometrycznych. WNT W-wa 2004

1

0x01 graphic

0x01 graphic

×7

1

7

8

9

10

11

b)

3

2

5

4

6

12

13

a)

1

24

26

28

4

6

5

Ri =W2i -W1i

W1i

W2i

5

4

6

26

24

28

Si =Wi -Wi-1

Wi

Wi-1



Wyszukiwarka

Podobne podstrony:
Mechatronika ćw 5, I,II, I, MET, geometryczna, LAB, INSTR
Mechatronika ćw 1, I,II, I, MET, geometryczna, LAB, INSTR
Mechatronika ćw 6, I,II, I, MET, geometryczna, LAB, INSTR
Mechatronika ćw 3, I,II, I, MET, geometryczna, LAB, INSTR
Mechatronika ćw 7, I,II, I, MET, geometryczna, LAB, INSTR
Wyka z ćwicz. BHP i reg.2012, I,II, I, MET, geometryczna, LAB, INSTR
druk, I,II, I, MET, geometryczna, LAB, INSTR
cw.2, II Rok, Elektrotechnika-lab
Wnioskicw4, Mechatronika, Rok II, Semestr III, Elektronika, Lab
Opracowanie koducw4 (1), Mechatronika, Rok II, Semestr III, Elektronika, Lab
open colector, Mechatronika, Rok II, Semestr III, Elektronika, Lab
cw.16, II Rok, Elektrotechnika-lab
Ćw 6 El, PW Transport, II rok, Elektrotechnika 3 lab, Cykl 2 opracowane zagadnienia
elektro7, Mechatronika, Rok II, Semestr III, Elektronika, Lab
APT LAB instr 5
Sprawko - ćw 6a, Politechnika Poznańska, Lab. Pomiary Wielkości Mechanicznych
instrukcja cw 1, II rok, II semestr, Chemia wody i powietrza
Przetwórstwo opracowane pytania MZ 2B DZ (1), Mechatronika, Rok II, Semestr III, PTS i skrawanie
ćw II

więcej podobnych podstron