Image030

nych struktur elementów, tym więcej tych elementów może być umieszczonych w płytce o określonych wymiarach i na niej. Z kolei rozmiary powierzchni płytki są ograniczone od góry przez wielkość uzysku produkcyjnego. Ponieważ ze zwiększeniem powierzchni płytki zwiększa się prawdopodobieństwo wadliwości struktury układowej, wywołane obecnością defektu, zatem w każdej technologii istnieje określona maksymalna wielkość powierzchni płytki półprzewodnikowej, która umożliwia otrzymanie określonego uzysku.

Kalendarz niektórych ważnych zdarzeń związanych z rozwojem mikroelektroniki

Rok

1948 — Wynalezienie tranzystora ostrzowego.

1951 — Opracowanie tranzystora stopowego.

1954 — Uruchomienie masowej produkcji tranzystorów krzemowych.

1956 — Opracowanie tranzystora mesa.

1958 — Opracowanie pierwszych układów scalonych.

1960    — Opracowanie technologii planarnej.

1961    — Uruchomienie seryjnej produkcji układów scalonych.

1962    — Opracowanie tranzystora MOS.

1963    — Opracowanie technologii SOS.

1964    — Uruchomienie produkcji układów scalonych TTL.

1968 — Uruchomienie produkcji układów scalonych CMOS.

1970    — Opracowanie 1024-bitowej pamięci dynamicznej RAM MOS/LSI.

—    Opracowanie kalkulatorów czterodziałaniowych z jednym układem scalonym.

1971    — Opracowanie 4-bitowego mikroprocesora p-MOS/LSI.

—    Opracowanie technologii „Isoplanar”.

1972    — Opracowanie 8-bitowego mikroprocesora p-MOS/LSI.

—    Opracowanie techniki I²L.

1974    — Opracowanie 8-bitowego mikroprocesora «-MOS/LSI.

—    Opracowanie bipolarnego mikroprocesora modułowego TTLS.

—    Uruchomienie produkcji dynamicznych pamięci RAM MOS/LSI o pojemności 4 kbit.

1975    — Opracowanie 8-bitowego mikroprocesora CMOS.

—    Opracowanie 4-bitowego mikroprocesora modułowego I²L.

1976    — Uruchomienie produkcji dynamicznych pamięci RAM MOS/LSI o pojemności

16 kbit.

1976    — Uruchomienie produkcji 16-bitowego mikroprocesora.

1977    — Uruchomienie produkcji 8-bitowego mikrokomputera jednoukładowego.

1978    — Uruchomienie produkcji 16-bitowego mikrokomputera jednoukładowego.

—    Uruchomienie produkcji pamięci ROM/MOS o pojemności 65 kbitów.

—    Uruchomienie produkcji pamięci REPROM o pojemności 32 kbity.

—    Uruchomienie produkcji pamięci statycznych RAM/MOS o pojemności 8 kbitów.

Literatura

[1]    Altman L.: Advances in designs and new processes yield surprising performance. Electronics, Apr. 1, 1976

[2]    Ambroziak A.: Półprzewodnikowe układy scalone. Warszawa, PWN 1966

[3]    Badźmirowski K.: Układy scalone LSI. Informacje, studia, przyczynki. Wyd. PIE Warszawa kwiecień 1978

[4]    Blakeslee T. R.: Digital Design with Standard MSI and LSI. New York, Wiley 1974

[5]    Boyle W. S., Smith G.E.: Charge-coupled semiconductor devices. Bell Syst. Techn. J., vol. 12, Aprił 1970, pp. 587 ~ 593