400 (20)

400 (20)



- 400


Tranzystory połowę



Rys. 6.33

Zależność pojemności bramki od napięcia U as- a) pojemność C,t i jej składowe; b) wpływ napięcia UDS na przebieg charakterystyki Ogt(Uos) krzywej Cgi(UGS) dla różnych wartości napięcia UDS. Pojemność bramki zdefiniowano następująco;

c9i = Cgsi+Cgbl+Cgdl    (6.88)

Na wykresie przedstawionym na rys. 6.33a można wyróżnić trzy obszary odpowiadające pracy tranzystora w zakresie: zatkania, nasycenia, nienasycenia.

W zakresie zatkania pojemność bramki tworzy tylko jedna składowa Cgbl, która zależy od napięcia w identyczny sposób jak pojemność kondensatora MIS w' zakresie akumulacji i zubożenia. Gdy napięcie UGS przekroczy wartość napięcia progowego U T, pojawda się ładunek kanału, a wraz z nim pojawia się pojemność Cgsi, czyli pojemność Ggt wzrasta tak jak w kondensatorze MIS dla stanu inworsji. Jednak nie osiąga ona takiej samej wartości jak w stanie akumulacji (tak byłoby w kondensatorze MIS), gdyż dla \UGS— UT\ < [f70S| tranzystor pracuje w zakresie nasycenia i kanał zwężając się na drodze od źródła do drenu nierównomiernie ekranuje głębsze warstwy półprzewodnika. W zakresie nienasycenia, tj. dla |t/GS| > | UDS + UT\ pojawia się pojemność Ggdi, gdyż przy drenie pojawia się ładunek kanału. W miarę dalszego wzrostu napięcia Ues różnice w sterowaniu ładunku kanału napięciem źródła i drenu są coraz mniejsze

i pojemność Cgi dzieli się’ symetrycznie na składowe CgsixCgdiK--CiZL,\

Z

natomiast pojemność Cgbi znika wskutek silnego ekranowania głębszych wraretw półprzewodnika przez kanał.

W uproszczonej analizie można zastosowrać następujące wyrażenia analityczne, opisujące

w sposób przybliżony poszczególne pojemności:    jH H

Zakres zatkania \UCS\ < \UT\


Cg,i = 0

C«ii = 0    (6.89)

ZLei

c°bi - ~dT

i


Wyszukiwarka

Podobne podstrony:
15914 P1030342 266 M.Polowczyk, E.KIugmann - PRZYRZĄDY PÓŁPRZEWODNIKOWE Rys. 6.40. Zależność pojemno
IMG86 a)0,20 Temperatura, °C Rys. 8.10. Zależność wielkości ziaren w SWC od: a) temperatury i szybk
skrypt070 72 Rys. 4.15. Zależność stratności ferroelektryków od częstotliwości pola elektrycznego W
spektroskopia039 78 Rys. 42. Zależność współczynnika odbicia od energii fotonów dla fosforku cynku —
1l2 Im/s] Rys. 5-17. Zależność trwałości ostrza T od prędkości skrawania v w układzie logarytmicznym
104 Andrzej Szlęk Rys.11.2. Zależność stopnia wypalenia x od czasu r Fig.11.2. Carbon burn-out fract
11447 inzynieria procesowa 110009 1 1 Rys. 5. Wykres zależności naprężenia ścinającego od szybkości
IMG84 Ubytek masy, g/m2h    Ubytek masy, g/rrrh Rys. 8.103. Zależność szybkości koro
Rys. 9.46. Zależność mocy strat od częstotliwości
P1050667 *. ELEKTROGRAWIMETR1A, ELEKTROGRAF1A I KULOMETRIA Rys. 4.14. Zależność natężenia prądu od p
DSC01019 Flat wzrósł> Rys.2.65. Zależność współczynnika stmtności od ęzęstolliwości dla szeregowe
DSC01019 (3) Rys 2.65, Zależność współczynnika stmtności od ęzęstotliności dla szeregowego
Astrofotografia (40) 44 Astpofotografia Rys. 27. Zależność pola widzenia od ogniskowej obiektywu. Na

więcej podobnych podstron