1
INŻYNIERIA MATERIAŁOWA
I
KONSTRUKCJA SPRZĘTU
Materiały, konstrukcja sprzętu
i jego niezawodność
Materiały
Materiały
Materiały konstrukcyjne
Materiały przewodzące
Materiały rezystywne
Materiały dielektryczne
Materiały magnetyczne
Tworzywa sztuczne
Materiały półprzewodnikowe
Materiały na powłoki ochronne
Materiały stosowane w elektronice
Materiały
Materiały
Materiały konstrukcyjne - muszą charakteryzować się odpowiednimi
właściwościami mechanicznymi;
Materiały na konstrukcje nośne urządzenia; elementy konstrukcyjne
aparatury technologicznej i pomiarowej; obudowy elementów;
stal (stop żelaza Fe i węgla C ≤ 2%)
– ze względu na skład chemiczny: stale węglowe i stale stopowe;
– ze względu na przeznaczenie – stale konstrukcyjne, narzędziowe
oraz specjalne (odporne na korozję, żaroodporne, żarowytrzymałe
itp.);
miedź (miedź próżniowa) – szczególnie w lampach elektronowych
(anody; elastyczne złącza próżnioszczelne);
nikiel i jego stopy – materiał konstrukcyjny na wnętrza lamp
elektronowych;
Materiały stosowane w elektronice
Materiały
Materiały
Materiały przewodzące - muszą charakteryzować się bardzo dobrą
przewodnością elektryczną;
Materiały niezbędne do wykonania połączeń pomiędzy poszczególnymi
elementami układu jak również różnymi blokami urządzenia;
srebro – najwyższa przewodność elektryczna, łatwo pokrywa się siarczkami
i tlenkami;
miedź, stopy miedzi – dobra przewodność, niższa cena, niezłe własności
mechaniczne;
aluminium – dobra przewodność elektryczna, mała gęstość;
złoto – cienkowarstwowe pokrycia kontaktów, ochronne ścieżek połączeniowych;
Materiały stosowane w elektronice
Cu
Ag
Al
Au
gęstość [kg/m3]
8920
10490
2700
19300
przewodność elektryczna [S/m]
59,6
⋅
10
6
63
⋅
10
6
37,7
⋅
10
6
45,2
⋅
10
6
przewodność cieplna [W/mK]
398
429
210
317
Materiały
Materiały
Materiały rezystywne – wykorzystywane do produkcji elementów
grzejnych; rezystorów przemysłowych, laboratoryjnych, hybrydowych;
elementów układów pomiarowych itd.
Powinny one odznaczać się:
odpowiednio duża rezystancja właściwa;
mały współczynnik temperaturowym rezystancji;
stałość rezystancji w czasie;
odpowiednio duża odporność na utlenianie i działanie czynników
chemicznych;
dostatecznie wysoka temperatura topnienia;
Materiały stosowane w elektronice
Materiały
Materiały
Materiały rezystywne
materiały rezystywne metalowe - (RZADKO czyste metale) – wzrost
TWR wraz ze wzrostem temperatury;
stale niskostopowe (Cr+Al+niewielkie ilości Cu)
∼
0,75
Ω
mm
2
/m
stopy miedzi (Cu <53-60%> + Ni <45-40%>)
∼
0,5
Ω
mm
2
/m
stopy niklowo-chromowe
(nichromy)
bezniklowe stopy żelaza i chromu
materiały rezystywne niemetalowe – zmniejszanie się rezystywności
wraz ze wzrostem temperatury;
Materiały stosowane w elektronice
POWSZECHNIE STOSOWANE
W CIENKOWARSTWOWYCH
UKŁADACH HYBRYDOWYCH
2
Materiały
Materiały
Materiały dielektryczne – wykorzystywane jako tzw. dielektryki izolacyjne
oraz dielektryki kondensatorowe.
Dielektryki powinny charakteryzować się:
Właściwości elektryczne (duża wytrzymałość dielektryczna; niska
rezystywność skrośna i powierzchniowa; niska przenikalność elektryczna
względna i współczynnik strat dielektrycznych);
Właściwości mechaniczne (duża wytrzymałość na zginanie, rozciąganie,
ściskanie; odporność na uderzenia);
Właściwości chemiczne (odporność na utlenianie, odporność na działanie
kwasów i zasad);
Właściwości technologiczne (podatność na procesy obróbkowe);
Materiały stosowane w elektronice
Materiały
Materiały
Materiały dielektryczne – wykorzystywane są w trzech postaciach:
dielektryki gazowe
GAZY SZLACHETNE
GAZY SZLACHETNE
– argon, neon (lampy wyładowcze, świetlówki);
hel (bardzo rzadko stosowany)
GAZY NIESZLACHETNE
GAZY NIESZLACHETNE
– azot (jako gaz obojętny chemicznie w
procesach technologicznych; jako izolator w transformatorach)
dwutlenek węgla;
dielektryki ciekłe – oleje pochodzenia mineralnego; fluorowe związki
organiczne (np.
FLUORINERT
); wosk;
dielektryki stałe
ORGANICZNE
ORGANICZNE
– głównie pochodne przetworzonej celulozy (np.
papier)
NIEORGANICZNE
NIEORGANICZNE
– materiały ceramiczne; szkło; mika
Materiały stosowane w elektronice
Materiały
Materiały
Materiały półprzewodnikowe – najczęściej wykorzystywane są:
PIERWIASTKI – krzem (Si); german (Ge);
ZWIĄZKI PÓŁPRZEWODNIKOWE – arsenek galu (GaAs); fosforek
indu (InP); azotek galu (GaN); węglik krzemu (SiC); krzemogerman
(SiGe);
POLIMERY i inne związki organiczne
Materiały stosowane w elektronice
Si
Ge
GaAs
SiC
gęstość [kg/m3]
2330
5320
5320
3210
przerwa energetyczna [eV]
1,12
0,66
1,43
2,2-3,2
ruchliwość elektronów [cm
2
/Vs]
1350
3900
8500
500-1000
ruchliwość dziur [cm
2
/Vs]
450
1900
330
40-120
Materiały
Materiały
Materiały na powłoki ochronne
Powłoki ochronne mają za zadanie chronić powierzchnię przedmiotu.
Wymagane jest aby:
powłoka dobrze przylegała do podłoża;
nie łuszczyła się;
była szczelna.
Grubość powłok ochronnych: 0,21
÷
25
µ
m;
Materiały na powłoki ochronne to: nikiel, chrom, miedź, srebro, cyna, cynk,
ołów, kadm, aluminium i złoto;
Metody nanoszenia powłok ochronnych:
elektrochemiczne,
chemiczne,
nanoszenie próżniowe.
Technologie
Technologie
Materiały i technologie cienko- i grubowarstwowe
Kryterium podziału na cienkie warstwy i grube warstwy
grubość warstwy 1
µ
m (
NIE JEST TO PODZIAŁ ŚCISŁY
);
technologia osadzania warstwy
Technologie cienkowarstwowe to takie techniki produkcyjne, które
wykorzystują zaawansowaną aparaturę produkcyjną i laboratoryjną,
pracującą w warunkach podwyższonej czystości, za której pomocą której,
można produkować i przekształcać materiał z dokładnością do kilku warstw
atomowych.
Podstawowe procesy cienkowarstwowe to:
osadzanie;
utlenianie;
trawienie.
Technologie
Technologie
Materiały i technologie cienko- i grubowarstwowe
Technologie grubowarstwowe należą do standardowych technik
osadzania warstw o grubości powyżej kilku mikrometrów (standardowo
przedział 2 – 35
µ
m).
Wykorzystanie technologii grubowarstwowych na ogół nie wymaga
szczególnych warunków ani procedur i dlatego jest często spotykane
w przemyśle (
KOSZT MATERIAŁÓW, APARATURY TECHNOLOGICZNEJ,
POMIESZCZEŃ
).
Warstwy wytworzone w tej technologii posiadają na ogół mniejszą czystość
i gorsze uporządkowanie niż powstałe za pomocą technik
cienkowarstwowych.
3
Technologie
Technologie
Materiały i technologie grubowarstwowe
W technologii grubowarstwowej stosuje się pasty będące kompozycją:
fazy funkcjonalnej – proszki metali
i tlenków metali decydujących
o właściwościach elektrycznych warstw;
fazy wiążącej – odpowiada ona za
trwałe połączenie fazy funkcjonalnej
z podłożem ;
składnika organicznego – determinują
właściwości umożliwiające drukowanie
Rodzaje past:
Pasty przewodzące;
Pasty rezystywne;
Pasty dielektryczne .
Metoda sitodruku
podło
ż
e
nadruk
sito
pasta
rakla
poziomowanie
suszenie
Technologie
Technologie
Materiały i technologie grubowarstwowe
W technologii grubowarstwowej stosuje się pasty będące kompozycją:
fazy funkcjonalnej – proszki metali i tlenków metali decydujących
o właściwościach elektrycznych warstw;
fazy wiążącej – odpowiada ona za trwałe połączenie fazy
funkcjonalnej z podłożem (szkliwo borokrzemowe + tlenki modyfikujące)
składnika organicznego – żywice +rozpuszczalniki (właściwości
umożliwiające drukowanie)
Rodzaje past:
Pasty przewodzące – palladowo-srebrowe, platynowo-srebrowe, złote,
platynowo-złote i miedziane;
Pasty rezystywne – tlenek rutenu oraz rutenian bizmutu;
Pasty dielektryczne
Proces realizacji
IDENTYFIKACJA
POTRZEB
WYMAGANIA
PRZYGOTOWANIE
PRODUKCJI
PRODUKCJA
ZESPÓŁ SPRZ
ĘŻ
E
Ń
ZWROTNYCH
LIKWIDACJA
U
Ż
YTKOWANIE
DYSTRYBUCJA
PRODUKT
ODZYSK
ZŁOM
Kisiel R., Bajera A., „Podstawy Konstruowania Urządzeń Elektronicznych”, wPw, Warszawa: 1999
Właściwości urządzeń elektronicznych
Właściwości urządzenia decydujące o jego użyteczności można
podzielić na dwie grupy:
Funkcjonalne – zastosowanie wyrobu
Eksploatacyjne – zdolność zachowania przez urządzenie jego cech
funkcjonalnych w trakcie użytkowania
Urządzenie pracuje w środowisku! Czynniki środowiskowe
Urządzenie pracuje w środowisku! Czynniki środowiskowe
oddziałują na urządzenie, podzespoły i elementy elektroniczne
oddziałują na urządzenie, podzespoły i elementy elektroniczne
Działanie czynników środowiskowych
Działanie czynników środowiskowych
NIE MOŻE zostać całkowicie wyeliminowane!!!
NIE MOŻE zostać całkowicie wyeliminowane!!!
Narażenia środowiskowe
Rodzaje narażeń środowiskowych:
klimatyczne – naturalne czynniki środowiska związane z określonym
makroklimatem (temperatura, wilgotność, ciśnienie),
korozyjne atmosferyczne – najczęściej wynikające z przemysłowego
zanieczyszczenia środowiska w postaci gazowej, ciekłej (mgła), stałej (pył),
radiacyjne – promieniowanie podczerwone, ultrafioletowe, jonizujące,
itp.,
biotyczne – obecność i rozwój organizmów żywych: mikrobiotycznych
(bakterie, grzyby, pleśnie,...), makrobiotyczne (zwierzęta, owady, rośliny
wyższe),
mechaniczne – siły statyczne i dynamiczne (udary, wstrząsy, wibracje),
antropogenne – wynikające z obecności i/ lub działalności człowieka.
Niezawodność jest parametrem wyrobu (np. elementu bądź całego
urządzenia) określającym jakie jest prawdopodobieństwo, że wyrób
będzie pracował bezawaryjnie w określonym środowisku i przez
określoną ilość czasu.
Niezawodność wyraża się wzorem:
gdzie: N – liczba użytkowanych wyrobów; n(t) – liczba wyrobów, które
uległy uszkodzeniu do chwili t
Niezawodność
Niezawodność a intensywność uszkodzeń
PRZY ODPOWIEDNIO DU
Ż
YM
PRZY ODPOWIEDNIO DU
Ż
YM
N
N
4
Ze względu na ilość oraz różnorodność przyczyn awarii, proces pojawiania
się uszkodzeń w urządzeniach najczęściej rozkłada się równomiernie
w czasie. W rezultacie niezawodność można zapisać wzorem:
gdzie:
λ
- intensywność uszkodzeń [1/h]; a
t
– czas [h]
Intensywność uszkodzeń w większości przypadków nie zależy od czasu
użytkowania, czyli przyjmujemy że
λ
(t) = const.
Ponadto, jeśli
λλλλ
t ≤ 0,1
to:
Niezawodność a intensywność uszkodzeń
Niezawodność
Intensywność uszkodzeń może być wykorzystana do obliczenia
bezawaryjnej pracy urządzenia czyli do wyznaczenia średniego czasu do
pierwszego uszkodzenia MTTF (ang. mean time to failure) :
czyli przy założeniu, że
λ
t ≤ 0,1
to:
Średni czas do pierwszego uszkodzenia
Niezawodność
Intensywność uszkodzeń w funkcji czasu
Intensywność uszkodzeń
Kisiel R., Bajera A., „Podstawy Konstruowania
Urządzeń Elektronicznych”, wPw, Warszawa: 1999
Niezawodność
Czas życia wyrobu
czas [s]
ży
w
o
tn
o
ść
[
-]
czas [s]
ży
w
o
tn
o
ść
[
-]
Dla W
Dla W
A
A
= 0,3
= 0,3 eV
eV (defekty
(defekty
objętościowe Si i tlenku)
objętościowe Si i tlenku)
Dla W
Dla W
A
A
= 1,1
= 1,1 eV
eV (migracja
(migracja
zanieczyszczeń na powierzchni Si)
zanieczyszczeń na powierzchni Si)
22
Temperatura wpływa na niezawodność a tym samym na intensywność uszkodzeń
elementów elektronicznych
Intensywność uszkodzeń
λλλλ
w zależności od temperatury jest opisana zgodnie ze
wzorem Arrheniusa:
gdzie: W
A
– energia aktywacji procesu degradacji;
k – stała Boltzmanna;
T – temperatura bezwzględna;
λ
0
– intensywność uszkodzeń przy W
A
= 0 eV
Przykłady wzrostu parametru
λλλλ
wraz ze wzrostem temperatury o 100K:
ߣሺ400ሻ
ߣሺ300ሻ
≈ 4 ∙ 10
4
ߣሺ400ሻ
ߣሺ300ሻ
≈ 2 ∙ 10
1
Niezawodność
Intensywność uszkodzeń a temperatura
Struktura szeregowa – warunkiem działania struktury szeregowej
składającej się z k- elementów jest poprawne działanie każdego z tych
elementów. Niezawodność struktury szeregowej wyraża się wzorem:
gdzie: r
1
(t), r
2
(t)…r
k
(t) – niezawodność poszczególnych elementów;
λ
1
(t),
λ
2
(t)…
λ
k
(t) – intensywność uszkodzeń poszczególnych elementów
Niezawodność struktur podstawowych
r
3
(t)
r
1
(t)
r
2
(t)
DLA TRZECH ELEMENTÓW
DLA TRZECH ELEMENTÓW
Niezawodność
Struktura równoległa – warunkiem działania struktury równoległej
składającej się z k- elementów jest poprawne działanie co najmniej
jednego z tych elementów. Niezawodność struktury równoległej wyraża
się wzorem:
gdzie: r
1
(t), r
2
(t)…r
k
(t) – niezawodność poszczególnych elementów;
λ
1
(t),
λ
2
(t)…
λ
k
(t) – intensywność uszkodzeń poszczególnych elementów
DLA TRZECH ELEMENTÓW
r
1
(t)
r
2
(t)
r
3
(t)
Je
ś
li
Je
ś
li rr
1
1
(t) = r
(t) = r
2
2
(t) = … =
(t) = … = rr
k
k
(t) =
(t) = rr(t)
(t)
Niezawodność struktur podstawowych
Niezawodność
5
Oblicz niezawodność 4-bitowego licznik impulsów składającego się
z 4 przerzutników w formie układów scalonych o intensywności
uszkodzeń 0,2
10
-6
1/h i 20 połączeń lutowanych o intensywności
uszkodzeń 0,01
10
-6
1/h dla 1 roku pracy ciągłej.
Przykład 1
Niezawodność
Oblicz niezawodność systemu zasilania składającego się z zasilacza
sieciowego, przystosowanego do bezawaryjnej pracy w czasie 10
5
h,
podłączonego równolegle z zasilaczem akumulatorowym o czasie
bezawaryjnej pracy 10
6
h. Podaj wyniki dla 50h pracy ciągłej.
Przykład 2
Rozwiązania zwiększające niezawodność urządzeń
elektronicznych:
upraszczanie układów (rozbudowa zwiększanie liczby elementów dla
wyraźnej poprawy parametrów urządzenia),
stosowanie elementów typowych o działaniu i niezawodności wielokrotnie
sprawdzonej,
zapewnienie stabilnej pracy urządzeń w szerokim zakresie zmian
parametrów elementów składowych,
unikanie układów wymagających bardzo stabilnych napięć zasilających,
stosowanie układów kontroli pracy i wyszukiwania uszkodzeń,
stosowanie jak największej liczby elementów produkowanych w dużych
seriach i o sprawdzonej technologii,
minimalizacja liczby elementów regulacyjnych,
unikanie układów uniwersalnych, spełniających wiele funkcji.
Niezawodność
Właściwa ochrona podczas magazynowania i transportu ma
istotny wpływ na niezawodność elementów elektronicznych:
opakowania łagodzące skutki przeciążeń (gąbki, styropiany,...),
zapewnienie właściwej temperatury i wilgotności w otoczeniu
sprzętu (np. kontrolowana atmosfera w magazynach),
opakowania utrudniające kontakt z agresywnym środowiskiem,
antykorozyjne środki kontaktowe (oleje, smary, powłoki
zdzieralne),
inhibitory – środki absorbujące wilgoć,
mikroklimat w otoczeniu powierzchni sprzętu (hermetyczne
opakowania z atmosferą ochronną).
Niezawodność
INŻYNIERIA MATERIAŁOWA
I
KONSTRUKCJA SPRZĘTU
Obwody drukowane
Obwody drukowane
Co to jest obwód drukowany?
Co to jest obwód drukowany?
obwód drukowany
obwód drukowany –
– jest to płytka wykonana z izolacyjnego
jest to płytka wykonana z izolacyjnego
materiału wraz ze zrealizowanymi na jej powierzchni połączeniami
materiału wraz ze zrealizowanymi na jej powierzchni połączeniami
(ścieżkami) elektrycznymi przeznaczona do montażu podzespołów
(ścieżkami) elektrycznymi przeznaczona do montażu podzespołów
elektronicznych;
elektronicznych;
Podstawowe zadania płytek drukowanych
Podstawowe zadania płytek drukowanych
mechaniczne mocowanie elementów elektronicznych
mechaniczne mocowanie elementów elektronicznych
i elektromechanicznych w określonym miejscu urządzenia,
i elektromechanicznych w określonym miejscu urządzenia,
zapewnienie skutecznych połączeń elektrycznych pomiędzy
zapewnienie skutecznych połączeń elektrycznych pomiędzy
wszystkimi elementami
wszystkimi elementami
Obwody drukowane
Podstawowe pojęcia
Podstawowe pojęcia
ścieżki, mozaika przewodząca
ścieżki, mozaika przewodząca – połączenia elektryczne elementów
elektronicznych w postaci ścieżek prowadzonych po powierzchni
bądź wewnątrz izolatorów
pole lutownicze
pole lutownicze – fragment powierzchni izolatora pokryty folią miedzianą
umożliwiającą przymocowanie i odpowiednie połączenie elementów
elektronicznych
punkt lutowniczy
punkt lutowniczy – to pole/pola lutownicze wraz z wykonanym w nim
otworem metalizowanym
Kisiel R., „Podstawy Technologii
dla Elektroników”, btc, Warszawa: 2005
Obwody drukowane
6
PCB – ang: Printed Circuit Board (płytka drukowana)
SMT – ang: Sourface Mount Technology (montaż powierzchniowy)
SMD – ang: Sourface Mount Device (element elektroniczny przystosowany do
montażu powierzchniowego)
THT – ang: Through Hole Technology (montaż przewlekany)
THD – ang. Through Hole Device (elementy elektroniczne przystosowane do
montażu przewlekanego)
Obwody drukowane
Kisiel R., „Podstawy Technologii
dla Elektroników”, btc, Warszawa: 2005
Ważniejsze oznaczenia i skróty
Ważniejsze oznaczenia i skróty
Obwody drukowane
ZALETY:
małe koszty wytwarzania (czas i koszt wytworzenia niezależny od rodzaju
obwodu, liczby połączeń, kształtu),
zwiększenie powtarzalności właściwości elektrycznych (identyczność
wszystkich kolejnych wyrobów),
obniżenie kosztów montażu (automatyzacja układania i lutowania),
zmniejszenie ciężaru urządzeń (eliminacja elementów konstrukcyjnych),
wzrost niezawodności (lepsza jakość i powtarzalność montażu),
skrócenie czasu kontroli i pomiarów obwodów,
uproszczenie metod zabezpieczania urządzeń przed zagrożeniami
środowiskowymi
WADY:
trudności przy wprowadzaniu zmian konstrukcyjnych,
zwiększona wrażliwość na wibracje i udary,
utrudnione odprowadzanie ciepła.
Obwody drukowane
RODZAJE OBWODÓW DRUKOWANYCH:
wg materiału podłoża:
Sztywne
L
AMINAT
C
ERAMIKA
S
PECJALNE
Elastyczne
Sztywno - elastyczne
wg konstrukcji:
Jednostronne
Dwustronne
Wielowarstwowe
wg sposobu montażu:
Do montażu przewlekanego
Do montażu powierzchniowego
L
UTOWANIE NA FALI
L
UTOWANIE ROZPŁYWOWE
Do montażu mieszanego
wg technologii:
Wykonane metodą substraktywną
Wykonane metodą addytywną
Wykonane metodą póładdytywną
Laminaty sztywne
WYTWARZANIE PODŁOŻY:
T
Materiał osnowowy
Ż
ywica
Prepreg
Prepreg
P
T
Cu
Cu
2
2 –
– 10 warstw
10 warstw
Laminaty sztywne
GRUBOŚĆ PŁYTEK IZOLACYJNYCH:
płytki jednowarstwowe: 0,5 ÷ 6mm,
płytki wielowarstwowe: 0,05 ÷ 0,75mm / na warstwę,
GRUBOŚĆ FOLII MIEDZIANEJ:
5µm; 9µm; 17,5µm; 35µm; 70µm; 105µm
Typ żywicy
Typ żywicy
Typ nośnika
Typ nośnika
Forma materiału
Forma materiału
Oznaczenie
Oznaczenie
fenolowa
fenolowa
papier
papier
arkusz
arkusz
FR
FR--2; X; XP; XX; ...
2; X; XP; XX; ...
bawełna
bawełna
tkanina
tkanina
C; CE; L; LE
C; CE; L; LE
szkło
szkło
włóknina
włóknina
G
G--2
2
tkanina
tkanina
G
G--3
3
nylon
nylon
włóknina
włóknina
N
N--1
1
aminowa
aminowa
szkło
szkło
tkanina
tkanina
ES
ES--1; ES
1; ES--3; G
3; G--5; G
5; G--9
9
epoksydowa
epoksydowa
papier
papier
arkusz
arkusz
FR
FR--3
3
szkło
szkło
tkanina
tkanina
G
G--10; G
10; G--11; FR
11; FR--4; FR
4; FR--5
5
alkidowa
alkidowa
szkło
szkło
mata
mata
GPO
GPO--1; GPO
1; GPO--2
2
silikonowa
silikonowa
szkło
szkło
tkanina
tkanina
Laminaty sztywne
POPULARNE TYPY LAMINATÓW SZTYWNYCH:
7
Laminaty sztywne
WŁAŚCIWOŚCI POPULARNYCH TYPÓW LAMINATÓW SZTYWNYCH:
Parametr
Parametr
Jednostka
Jednostka
FR
FR--2
2
FR
FR--4
4
GPO
GPO--1
1
masa właściwa
masa właściwa
g/cm
g/cm
3
3
1,3
1,3
1,85
1,85
1,5
1,5--1,9
1,9
TCE: x, y
TCE: x, y
zz
ppm/K
ppm/K
11
11
12
12
11
11
15
15
15
15
21
21
przewodność cieplna
przewodność cieplna
W/mK
W/mK
0,24
0,24
0,35
0,35
--
stała dielektr. (1MHz)
stała dielektr. (1MHz)
--
4,5
4,5
4,9
4,9
4,4
4,4
wytrz. napięciowa
wytrz. napięciowa
kV/mm
kV/mm
60
60--70
70
35
35--65
65
40
40
wytrz.
wytrz.--rozciąganie: x,y
rozciąganie: x,y
zz
MPa
MPa
88
88
66
66
280
280
235
235
70
70
83
83
max temp. pracy
max temp. pracy
O
O
C
C
105
105
150
150
105
105
higroskopijność
higroskopijność
%
%
0,8
0,8
0,35
0,35
1,0
1,0
ZALETY LAMINATU FR-4:
cena adekwatna do własności elektrycznych i mechanicznych,
łatwa produkcja w skali masowej,
WADY LAMINATU FR-4:
trudności przy wierceniu otworów,
mała stabilność wymiarowa,
niska temperatura zeszklenia żywicy (120 – 160
O
C),
niedopasowanie TCE laminatu i elementów,
konieczność utylizacji pyłu szklanego i kurzu żywicznego.
Laminaty sztywne
Parametr
Parametr
Jednostka
Jednostka
Al
Al
2
2
O
O
3
3
95%
95%--99,6%
99,6%
AlN
AlN
BeO
BeO
masa właściwa
masa właściwa
g/cm
g/cm
3
3
3,7
3,7 --3,9
3,9
3,3
3,3
2,9
2,9
TCE: 20
TCE: 20--600
600
0
0
C
C
20
20--1000
1000
0
0
C
C
ppm/K
ppm/K
7,6
7,6
8,2
8,2
4,6
4,6
8,1
8,1
9,4
9,4
przewodność cieplna
przewodność cieplna
W/mK
W/mK
25
25--37
37
170
170--215
215
273
273
stała dielektr. (1MHz)
stała dielektr. (1MHz)
--
9
9 –
– 9,8
9,8
10
10
6,6
6,6
wytrz. napięciowa
wytrz. napięciowa
kV
kV/mm
/mm
8
8 --10
10
15
15
14
14
wytrzymałość na zginanie
wytrzymałość na zginanie
kPa
kPa
32
32 -- 49
49
--
19
19
max temp. pracy
max temp. pracy
O
O
C
C
1700
1700
700
700
1200
1200
higroskopijność
higroskopijność
%
%
0
0
0
0
0
0
Podłoża ceramiczne
WŁAŚCIWOŚCI POPULARNYCH PODŁOŻY CERAMICZNYCH:
Podłoża elastyczne
OBSZAR ZASTOSOWAŃ:
połączenia elastyczne między płytkami drukowanymi sztywnymi
różnych podzespołów lub bloków urządzeń elektronicznych,
części elastyczne w płytkach sztywno-giętkich,
elastyczne połączenia dynamiczne,
podłoża do montażu przestrzennego (3D),
elastyczne obwody drukowane
(np. aplikacje tekstroniczne).
Wymagania:
Wymagania:
stabilność wymiarowa,
odporność termiczna,
odporność na zrywanie,
parametry elektryczne,
elastyczność w temperaturach ekstremalnych,
higroskopijność,
odporność chemiczna,
palność,
Podłoża elastyczne
Parametr
Parametr
Poliimid
Poliimid
Poliester
Poliester
Aramid
Aramid
Epoksyd
Epoksyd
Rozci
ą
ganie (
Rozci
ą
ganie (MPa
MPa)
)
175
175--210
210
154
154--196
196
77
77
245
245--260
260
Max wydłu
ż
enie (%)
Max wydłu
ż
enie (%)
60
60--80
80
60
60--165
165
7
7--10
10
3
3--5
5
Max temperatura (
Max temperatura (
O
O
C)
C)
--200/+300
200/+300
--60/+105
60/+105
55/+200
55/+200
--55/+150
55/+150
Temp. zeszklenia (
Temp. zeszklenia (
O
O
C)
C)
220
220--260
260
90
90--110
110
90
90--165
165
120
120--150
150
TCE (ppm/
TCE (ppm/
O
O
C)
C)
20
20
2
27
7
22
22
10
10--12
12
Przenikalno
ść
elektr.
Przenikalno
ść
elektr.
3,4
3,4
3,0
3,0
2,1
2,1
4
4,5
,5--5,3
5,3
Wytrz. napi
ę
ciowa (kV/mm)
Wytrz. napi
ę
ciowa (kV/mm)
144
144
136
136
20
20
9,6
9,6
Higroskopijno
ść
(%)
Higroskopijno
ść
(%)
2,9
2,9
0,3
0,3
8
8--9
9
0,05
0,05--3
3
Przykładowe podłoża elastyczne i ich właściwości:
Przykładowe podłoża elastyczne i ich właściwości:
Podłoża elastyczne
Kapton®
cena :-(
Mylar®
cena :-)
Nomex®
cena :-)
8
Metody wytwarzania folii miedzianych:
Metody wytwarzania folii miedzianych:
obróbka plastyczna (walcowanie)
obróbka plastyczna (walcowanie) –
– Cu 99,9%
Cu 99,9%
ELASTYCZNE OBWODY DRUKOWANE
ELASTYCZNE OBWODY DRUKOWANE
+ elastyczność (wytrzymałość na zginanie);
- wytrzymałość na rozciąganie; lutowność; ograniczona
szerokość folii;
elektrolitycznie
elektrolitycznie –
– Cu 99,5%
Cu 99,5%
SZTYWNE OBWODY DRUKOWANE
SZTYWNE OBWODY DRUKOWANE
- plastyczność
naparowywanie w wysokiej próżni
naparowywanie w wysokiej próżni
Mozaika przewodząca
Sposoby wytwarzania mozaiki przewodzącej
Sposoby wytwarzania mozaiki przewodzącej
metoda
metoda subtraktywna
subtraktywna
metoda
metoda póładdytywna
póładdytywna
metoda addytywna
metoda addytywna
Mozaika przewodząca
Metoda
Metoda subtraktywna
subtraktywna::
Materiał wyjściowy – laminat foliowany miedzią;
W celu otrzymania mozaiki przewodzącej usuwa się zbędne obszary
miedzi;
Rodzaje:
Trawienie zbędnych obszarów miedzi,
Mikrofrezowanie,
Obróbka laserowa (laser micromashining).
Metoda
Metoda subtraktywna
subtraktywna –
– trawienie:
trawienie:
Mozaika przewodząca
LAMINAT
FOLIA Cu
MOZAIKA
PRZEWODZ
Ą
CA
(1)
(1)
(2)
(2)
(3)
(3)
(4)
(4)
Powszechnie stosowana
metoda maskowania
– fotochemiograficzna;
Maski – fotopolimery
stałe, emulsje ciekłe;
Naświetlenie obszarów
w celu uodpornienia ich
na czynniki trawiące;
Metoda
Metoda subtraktywna
subtraktywna -- ograniczenia:
ograniczenia:
ścieżki nie węższe niż 0,2 mm,
podtrawianie ścieżek
1 – maska; 2 – ścieżka drukowana; 3 – podłoże
a – podtrawienie; b – szerokość ścieżki; d – grubość folii
Mozaika przewodząca
Metody addytywne:
Metody addytywne:
addytywna z maskowaniem,
wiercenie otworów w laminacie,
maskowanie płytki w miejscach braku mozaiki,
metalizacja chemiczna Cu do wymaganej grubości,
zmywanie maski
,
addytywna bez maskowania (fotoaddytywna),
wiercenie otworów w laminacie,
oświetlenie laminatu w miejscach występowania mozaiki przewodzącej
(przez kliszę negatywową),
metalizacja chemiczna Cu,
Mozaika przewodząca
Technologia DCB (
Technologia DCB (Direct
Direct Copper
Copper Bonding
Bonding):
):
Powszechnie stosowana ceramika
Al
2
O
3
(96%),
Lepsze parametry cieplne AlN
Ograniczenie wymiarów podłoży
ze względu na deformacje podczas
wygrzewania
Metody wytwarzania PCB
J. Schulz-Hader, A. Dehmel, A. Roth "High reliability
solutions based on DCB substrates", www.curamik.com
9
Organizacja powierzchni PCB
STREFA I
STREFA I – montażu elementów
elektronicznych
gdzie F
i
– powierzchnia zajmowana przez
i-ty element
STREFA II
STREFA II – złącza
STREFA III
STREFA III – dostępu zewnętrznego
STREFA IV
STREFA IV – mocowania
Kisiel R., „Podstawy Technologii dla Elektroników”,
btc, Warszawa: 2005
Technologie montażu
powierzchniowy
powierzchniowy
mieszany II
mieszany II
mieszany I
mieszany I
przewlekany
przewlekany
Projektowanie obwodów drukowanych
Siatka modułowa tzw. raster
Siatka modułowa tzw. raster
Mil – jednostka miary używana w projektowaniu obwodów drukowanych
1 mil = 1/1000 cala
1 mil = 1/1000 cala
UKŁAD
JEDNOSTEK
METRYCZNY
CALOWY
MILSOWY
Podstawowy
2,5 mm
0,1” = 2,54 mm
100
Pośredni
1,25 mm
0,05”= 1,27 mm
50
wtórny
0,625 mm
0,025”= 0,635 mm
25
Podstawowe reguły projektowania obwodów drukowanych:
pola lutownicze elementów przewlekanych muszą być umieszczone
w węzłach siatki modułowej,
środki geometryczne podzespołów SMD umieszcza się w węzłach
siatki,
ścieżki powinny być prowadzone
po liniach siatki modułowej.
Projektowanie obwodów drukowanych
Kisiel R., „Podstawy Technologii dla Elektroników”,
btc, Warszawa: 2005
Pola lutownicze:
NIEMETALIZOWANE:
NIEMETALIZOWANE:
METALIZOWANE
METALIZOWANE::
D/d=2,5÷3
D/d=1,5÷2
Projektowanie obwodów drukowanych
dla
dla d
d
wypr
wypr
=
= 0,5
0,5--0,85mm:
0,85mm: d =
d = d
d
wyprMAX
wyprMAX
+ 0,10
+ 0,10 ±
±0,05mm,
0,05mm,
dla
dla d
d
wypr
wypr
= 0,85
= 0,85--1,10 mm: d =
1,10 mm: d = d
d
wyprMAX
wyprMAX
+ 0,15
+ 0,15 ±
±0,1mm,
0,1mm,
dla
dla d
d
wypr
wypr
= 1,1
= 1,1--2,00 mm: d =
2,00 mm: d = d
d
wyprMAX
wyprMAX
+ 0,20
+ 0,20 ±
±0,1mm,
0,1mm,
Otwory punktów metalizowanych powinny być
Otwory punktów metalizowanych powinny być
powiększone dodatkowo o 0,15
powiększone dodatkowo o 0,15--0,30 mm
0,30 mm
Ścieżki drukowane:
dopuszczalna obciążalność prądowa,
Projektowanie obwodów drukowanych
S; l; R=const
R
l
=R/l
T przewodu
T
max
I[A]
J[A/mm
2
]
P
l
=I
2
R
l
J
A
S = 1mm
2
□
:35
µ
mx28,5mm
ob.= 28,6mm
○
: r = 1,13mm
ob.= 4,27mm
10
Ścieżki drukowane:
dopuszczalna obciążalność prądowa,
dopuszczalny spadek napięcia na długości ścieżki,
technologia wykonania płytki, np. dokładność procesu trawienia,
znormalizowane szerokości ścieżek,
pojawiające się elementy pasożytniczych (indukcyjności, pojemności)
rodzaj materiału podłoża izolacyjnego,
warunki środowiskowe (temperatura, wilgotność, ciśnienie),
sposób montażu elementów,
odległość między ścieżkami.
Projektowanie obwodów drukowanych
Odległości pomiędzy ścieżkami:
różnice napięć na sąsiednich ścieżkach,
wartości szczytowe napięć,
rezystancja powierzchniowa materiału podłoża,
warunki środowiskowe (wilgotność, zanieczyszczenie atmosfery,
temperatura, ciśnienie),
rodzaj powłoki izolacyjnej,
wzajemne oddziaływanie elektromagnetyczne,
sposób montażu elementów,
możliwości wykonawcze producenta .
Projektowanie obwodów drukowanych
Zalecenia szczegółowe:
Rozkład ścieżek na płytkach powinien być zrównoważony cieplnie,
Długość ścieżek powinna być jak najkrótsza (ścieżki nie powinny zakręcać
pod kątem 90
0
),
Należy stosować możliwie najszersze ścieżki,
Minimalna odległość ścieżek od krawędzi płytki
0,4 mm – dla płytek jednostronnych,
0,5 mm – dla płytek dwustronnych,
Połączenia pól lutowniczych powinny
być doprowadzane centralnie i nie przekra-
czać 1/3 szerokości pola;
Pole lutownicze nie może być częścią ścieżki;
Odległość między korpusami elementów nie może być mniejsza od 0,5 mm.
Projektowanie obwodów drukowanych
Rozkład elementów:
minimalizacja prawdopodobieństwa powstawania błędów lutowniczych,
skuteczne odprowadzanie mocy rozpraszanej przez urządzenie,
optymalizacja układania elementów,
możliwość testowania i montażu mechanicznego gotowego pakietu,
należy uwzględnić mocowanie elementów ciężkich.
Projektowanie obwodów drukowanych
INŻYNIERIA MATERIAŁOWA
I
KONSTRUKCJA SPRZĘTU
Elementy
Miniaturyzacja
Historia rozwoju technik montażu
1970
1980
1990
2000
2010
P
R
E
Z
S
T
R
Z
E
Ń
Z
A
J
M
O
W
A
N
A
P
R
Z
E
Z
S
Y
S
T
E
M
MONTA
Ż
PRZEWLEKANY
MONTA
Ż
POWIERZCHNIOWY
MONTA
Ż
Z UDZIAŁEM
OBUDÓW MATRYCOWYCH
System on Chip
System in Package
Kisiel R., „Podstawy Technologii dla Elektroników”, btc, Warszawa: 2005
11
Miniaturyzacja
REZYSTANCJA:
REZYSTANCJA:
POJEMNOŚĆ:
POJEMNOŚĆ:
Element k-razy mniejszy
a’
b
c
a
b’
c’
OBJĘTOŚĆ:
OBJĘTOŚĆ:
GĘSTOŚĆ
GĘSTOŚĆ
WYDZIELANEJ MOCY:
WYDZIELANEJ MOCY:
Obudowa elementu elektronicznego
Podstawowe zadnia stawiane przed obudowami elementów
elektronicznych:
Doprowadzenie zasilania do układu elektronicznego,
Przesyłanie sygnałów wejściowych i wyjściowych,
Odprowadzenie ciepła z układu,
Zabezpieczenie układu przed niekorzystnym
oddziaływaniem środowiska.
Technologia „packagingu”:
Połączenie struktury półprzewodnikowej z podłożem obudowy lub
podłożem mikroukładu,
Wykonanie połączeń pomiędzy metalicznymi kontaktami struktury
półprzewodnikowej oraz kontaktami podłoża mikroukładu
Hermetyzacja.
MONTA
Ż
MONTA
Ż
HERMETYZACJA
Obudowa elementu elektronicznego
Montaż
Połączenie pomiędzy metalicznymi kontaktami struktury półprzewodnikowej
a wyprowadzeniami obudowy może być zrealizowane w technologii:
montaż drutowy,
technologia flip-chip,
technologia TAB (
T
APE
A
UTOMATED
B
ONDING
) ,
lutowanie lutem miękkim,
klejenie przy zastosowaniu klejów
przewodzących.
Obudowa elementu elektronicznego
Główne kryteria wyboru typu obudowy:
Rodzaj elementu,
Technologia montażu PCB (elementy SMD lub „przewlekane”),
Moc rozpraszana w elemencie,
Warunki środowiskowe,
Dostępność obudowy i koszt elementu.
Podzespoły do montażu przewlekanego
Podzespoły do montażu przewlekanego charakteryzują się tym że ich
wyprowadzenia są przewlekane przez otwory w płytce drukowanej a następnie
są do niej lutowane. Może podzielić je:
wg ilości wyprowadzeń:
dwuwyprowadzeniowe,
wielowyprowadzeniowe,
wg rozmieszczenia wyprowadzeń:
osiowe,
radialne.
A = L + 2c + 2R +
A = L + 2c + 2R + d
d
w
w
= n * 50mil
= n * 50mil
c = 1
c = 1 –
– 4 mm
4 mm
R
R
min
min
= 1 mm
= 1 mm
R
L
c
A
www.fonar.com.pl
Podzespoły osiowe:
Najczęściej mają kształt walca.
Wyprowadzenia umieszczone są w ich osi.
Przystosowane do lutowania ręcznego
oraz lutowania na fali.
Stosunkowo długie wyprowadzenia dają
pewną dowolność w rozmieszczeniu ich
punktów lutowniczych.
Wyprowadzenia wykonane są z drutów
(najczęściej miedzianych) o średnicach
0,38 do 0,81 mm pokrytych powłokami
o dobrej lutowności.
Rezystory, kondensatory, diody, niektóre
rozwiązania cewek i dławików
Podzespoły do montażu przewlekanego
12
Podzespoły radialne:
Różne kształty obudów: płaskie okrągłe,
prostopadłościenne, kubeczkowate.
Wyprowadzenia umieszczone są po
jednej stronie elementu i są do siebie
równoległe.
Rozstaw wyprowadzeń jest wielokrotnością
(sporadycznie ułamkiem) wymiaru charak-
terystycznego 2,54 mm = 100 milsów.
Niektóre rezystory, większość kondensatorów
oraz elementy optoelektroniczne np. diody LED.
Podzespoły do montażu przewlekanego
Podzespoły wielowyprowadzeniowe:
Elementy czynne: tranzystory, układy
scalone.
Obudowy prostopadłościenne lub kubecz-
kowe
Obudowy kubeczkowe: najczęściej metalowe
(TO5, TO18, TO98) rzadziej plastikowe (TO92).
Układy scalone w obudowach kubeczkowych
- liczba wyprowadzeń 4, 6, 8, 10, 12 lub 14.
Układy scalone VLSI: obudowy DIP i SIP nie
mogą być stosowane ze względu na niedopa-
sowanie TCE (max 64).
Obudowy prostopadłościenne: plastikowe
(sprzęt powszechnego użytku) lub ceramiczne
(sprzęt profesjonalny i specjalny).
Podzespoły do montażu przewlekanego
Tranzystory:
Obudowy serii TO (Transistor Outline)
- plastikowe (TO-92), metalowe (TO-5)
Dla tranzystorów średniej i dużej mocy
(obudowy metalowe) kolektor jest
połączony galwanicznie z obudową
Różne typy tranzystorów mogą mieć
tą samą obudowę, ale inaczej
ułożone wyprowadzenia !!!
Niektóre obudowy zawierają „mini-
radiator” pełniący również rolę
elementu mocującego (TO-3, TO-220).
TO
TO--18
18
TO
TO--3
3
TO
TO--220
220
TO
TO--92A
92A
Podzespoły do montażu przewlekanego
Diody:
Dwa wyprowadzenia
Rozróżnienie i orientacja wyprowadzeń!
Obudowa zależna od typu diody i jej mocy.
Podzespoły do montażu przewlekanego
Złącza, podstawki:
Obudowy wielonóżkowe;
Standaryzacja rozwiązań;
Różne rodzaje obudów – płaskie, kątowe,
do układów scalonych, itp...
Podzespoły do montażu przewlekanego
Podzespoły do montażu powierzchniowego powinny charakteryzować się:
wyprowadzenia przystosowane do montażu na powierzchni płytki PCB;
kontakty powinny być łatwo i dobrze zwilżalne;
kształty i wymiary muszą być zunifikowane i przystosowane do montażu
automatycznego;
lepsze odwzorowanie kształtu korpusu; odporność na mycie (rozpuszczalniki,
woda);
odporność na naprężenia mechaniczne i termiczne w trakcie lutowania;
mniejsze, bardziej zwarte konstrukcje pozwalają na pracę z wyższymi
częstotliwościami.
Podzespoły do montażu powierzchniowego
13
Podzespoły typu „chip”:
Kształt prostopadłościanu z wyprowadzeniami
na węższych krawędziach zintegrowanymi
z korpusem.
Rezystory, kondensatory oraz niektóre typy
bezpieczników i cewek.
Znormalizowane wymiary to długość
i szerokość. Wysokość oraz wielkość
kontaktów zależą od innych czynników.
1206: 0,12” x 0,06” = 3mm x 1,5mm
0805: 0,08” x 0,05” = 2mm x 1,27mm
0402: 0,04” x 0,02” = 1mm x 0,5mm
0201: 0,02” x 0,01” = 0,5mm x 0,25mm
1206
0,06”
Podzespoły do montażu powierzchniowego
Rezystory:
Zakres rezystancji:
Klasy tolerancji:
Moc rozpraszana:
Temperaturowy współczynnik rezystancji: typ. 0,02%/K
Rezystory zero-ohmowe czyli tzw. zworki
Użycie „zworek” w postaci rezystorów SMD o wartości 0 ohmów pozwala
uniknąć stosowania dodatkowych „przelotek” na płytce PCB.
Umożliwia to likwidację jednej warstwy metalizacji.
Podzespoły do montażu powierzchniowego
Kondensatory ceramiczne:
konstrukcja płaska złożona z ceramicznych metalizowanych płatków
(nawet do 50 warstw);
zbyt szybkie nagrzewanie może powodować pęknięcia w wewnętrznych
warstwach;
elektroda
ceramika
Podzespoły do montażu powierzchniowego
Elementy polaryzowane:
Diody, kondensatory elektrolityczne
tantalowe, aluminiowe;
Dwa wyprowadzenia;
Polaryzacja oznaczona poprzez
kształt elementu lub symbol na
obudowie;
76
Kondensator tantalowy
Dioda
Podzespoły do montażu powierzchniowego
Tranzystory:
Typowe obudowy tranzystorów
– SOT (Small Outline Transistor)
3 ewentualnie 4 wyprowadzenia
Moce znamionowe zależą od
wymiarów obudowy
500mW
500mW ((1W
1W))
200mW (
200mW (350mW
350mW))
Podzespoły do montażu powierzchniowego
Układy scalone - SMD:
Układy scalone małej i średniej skali integracji:
SO (Small Outline) lub SOIC (Small Outline
Integrated Circuit) – wyprowadzenia w dwóch
rzędach wzdłuż dłuższych boków. Raster
wyprowadzeń 1,27 mm = 50mils
Typ obudowy jest rozszerzony o informacje
określającą liczbę wyprowadzeń np.: SO16.
1-sza nóżka jest zawsze oznaczona na obudo-
wie. Na płytkach PCB nóżka nr 1 oznaczona
polem prostokątnym.
Typowa liczba wyprowadzeń w SO wynosi 8 – 32.
Zminiaturyzowana wersja VSO (Very Small Outline)
może posiadać nawet do 56 wyprowadzeń.
Ograniczenie - nadmierne naprężenia ścinające.
SOIC
SOIC
SOJ
SOJ
Podzespoły do montażu powierzchniowego
14
Układy scalone - SMD:
Zwiększenie liczby wyprowadzeń
- obudowy kwadratowe z wypro-
wadzeniami rozmieszczonymi na
czterech bokach:
PLCC (Plastic Leaded Chip Carrier)
wyprowadzenia w kształcie litery „J”
rozstawione co 1,27 mm;
do 84 wyprowadzeń;
QFP (Quad Flat Package) wypro-
wadzenia w kszatłcie spłaszczonej
litery „Z”; rozstaw wyprowadzeń
od 1mm do 0,4mm; ilość wyprowa-
dzeń od 32 do 304;
QFN (Quad Flat No-Lead) – obudowy
„bezwyprowadzeniowe”; rolę wyprowadzeń
pełnią „pola lutownicze” na spodzie obudowy.
PLCC
PLCC
QFP
QFP
QFN
QFN
Podzespoły do montażu powierzchniowego
Układy scalone – PLCC, QFP:
Koplanarność wyprowadzeń;
Zwichrowania płytek podłożowych obwodów drukowanych;
Jakość pól lutowniczych;
Technologiczne możliwości realizacji połączeń (rozdzielczość druku pasty
lutowniczej).
Podzespoły do montażu powierzchniowego
CSP
Moduły
BGA
BGA (Ball Grid Array), CSP (Chip Scale Package), Flip Chip
Podzespoły do montażu powierzchniowego
duża liczba wyprowadzeń,
dobra wytrzymałość mechaniczna,
eliminacja problemu koplanarności,
zmniejszenie ilości pasty lutowniczej,
zmniejszenie wadliwości montażu,
zwiększenie precyzji montażu.
Wadliwo
ść
monta
ż
u:
Wadliwo
ść
monta
ż
u:
PBGA
PBGA
1
1÷
÷ 3 ppm
3 ppm
QFP(0,635mm)
QFP(0,635mm)
15
15 ÷
÷ 20 ppm
20 ppm
QFP(0,5mm)
QFP(0,5mm)
15
15 ÷
÷ 80 ppm
80 ppm
ZALETY BGA (Ball Grid Array)
Zjawisko
Zjawisko samocentrowania
samocentrowania kontaktów sferycznych na polach lutowniczych:
kontaktów sferycznych na polach lutowniczych:
tolerancje pozycjonowania:
tolerancje pozycjonowania:
BGA (Ø0,74mm) – 0,30 mm;
QFP (0,5mm)
– 0,08 mm;
Podzespoły do montażu powierzchniowego
INŻYNIERIA MATERIAŁOWA
II
Połączenia lutowane
Połączenia lutowane
spoiwa i pasty lutownicze
spoiwa i pasty lutownicze
INŻYNIERIA MATERIAŁOWA
I
KONSTRUKCJA SPRZĘTU
Połączenia lutowane
spoiwa i pasty lutownicze
15
Tworzenie połączeń elektrycznych
Definicja połączenia elektrycznego elementów:
Wyprowadzenia metalowe dwóch elementów są połączone elektrycznie jeżeli
elektrony z siatki krystalicznej jednego metalu mogą się przenosić swobodnie
do siatki krystalicznej drugiego.
Rodzaje połączeń:
Stałe
Rozłączne
POŁ
Ą
CZENIE
POŁ
Ą
CZENIE
TRWAŁE
TRWAŁE
OBSZAR
OBSZAR
POŁ
Ą
CZENIA
POŁ
Ą
CZENIA
KO
Ń
CÓWKI
KO
Ń
CÓWKI
WYPROWADZENIA
WYPROWADZENIA
Łączone elementy:
Naturalną cechą powierzchni elementów metalowych jest:
CHROPOWATOŚĆ POWIERZCHNI;
WARSTWY IZOLACYJNE (
NA POWIERZCHNI TAKICH MATERIAŁÓW JAK
C
U
, A
G
,
A
L
,
STOPY CYNY
,
W SKUTEK REAKCJI ZE SKŁADNIKAMI ATMOSFERY NP
.:
TLEN
,
SIARKA TWORZĄ SIĘ WARSTWY IZOLACYJNE O GRUBOŚCI
0,1
MIKROMETRA
);
Aby uzyskać odpowiednie połączenie elektryczne należy usunąć warstwę
izolacyjną => mała rezystancja połączenie; możliwy przepływ prądu
elektrycznego.
Tworzenie połączeń elektrycznych
Różne techniki tworzenia połączeń stałych:
Z wprowadzeniem dodatkowej fazy łączącej
L
UTOWANIE
;
Z
GRZEWANIE
;
K
LEJENIE
;
Z wykorzystaniem naprężeń stykowych
O
WIJANIE
;
Z
ACISKANIE
;
Z
AKLESZCZANIE
.
Tworzenie połączeń rozłącznych jedynie poprzez naprężenia stykowe
nie przekraczające granicy sprężystości materiałów
Tworzenie połączeń elektrycznych
Tworzenie połączeń stałych z dodatkowa fazą łączącą:
Proces tworzenia połączenia:
LUTOWANIE –
CHWILOWE STOPIENIE ŁĄCZĄCEGO STOPU
;
ZGRZEWANIE –
STOPIENIE PRZYPOWIERZCHNIOWEJ WARSTWY
ŁĄCZONYCH METALI
;
KLEJENIE –
TRWAŁA ZMIANA STANU SKUPIENIA KLEJU
;
Usuwanie warstwy izolacyjnej:
TOPNIKI (
LUTOWANIE
);
ROZPUSZCZALNIKI (
ZGRZEWANIE LUB KLEJENIE
).
Tworzenie połączeń elektrycznych
Tworzenie połączeń stałych z wykorzystaniem naprężeń stykowych:
Proces tworzenia połączenia:
ZBLIŻENIE ŁĄCZONYCH POWIERZCHNI NA ODLEGŁOŚCI ATOMOWE
TWORZĄ SIĘ ODKSZTAŁCENIA NA POZIOMIE MIKRONIERÓWNOŚCI
Usuwanie warstwy izolacyjnej:
W WYNIKU DZIAŁANIA NAPRĘŻEŃ WYWOŁANYCH NACISKIEM
MAŁA
MAŁA
SIŁA
SIŁA
DU
Ż
A
DU
Ż
A
SIŁA
SIŁA
Tworzenie połączeń elektrycznych
Montaż – połączenia lutowanie:
Lutowanie jest procesem polegającym na łączeniu elementów metalowych
za pomocą dodatkowego roztopionego metalu zwanego lutem (spoiwem).
Temperatura topnienia lutu jest znacznie niższa od temperatury topnienia
łączonych metali (W
ELEKTRONICE STOSUJE SIĘ NAJCZĘŚCIEJ TZW
.
LUTOWANIE
MIĘKKIE
=>
TEMP
.
TOPNIENIA LUTU
< 450
0
C).
Połączenie lutowane stanowią
obszary łączonych metali
pokryte lutem wraz z tym
lutem.
Połączenia lutowane
punkt lutowniczy
punkt lutowniczy
wyprowadzenie
wyprowadzenie
lutowie
lutowie
PCB
PCB
16
zwilżenie łączonych powierzchni,
wnikania lutu w nierówności łączonych metali,
dyfuzji,
powstawania związków międzymetalicznych (łączony metal-lut).
Połączenie lutowane powstaje w wyniku zajścia szeregu zjawisk:
Połączenia lutowane
lutowie
lutowie
mied
ź
mied
ź
Cu
Cu
6
6
Sn
Sn
5
5
Cu
Cu
3
3
Sn
Sn
LUTOWANIE
TEMP:
220
°
C
CZAS
2 s
GR. WARSTWY
0,5
µ
m
Budowa połączenia lutowanego zależy od:
składu chemicznego łączonych metali i lutu,
właściwości fizycznych łączonych metali i lutu,
temperatury procesu,
odległości między łączonymi powierzchniami,
sposobów ochrony złącza przed utlenianiem,
czystości łączonych powierzchni,
metody lutowania,
...
Połączenia lutowane
dobre zwilżanie łączonych metali przez lut,
powinowactwo chemiczne lutu do metali łączonych,
jak najmniejszy zakres krystalizacji lutu,
dostateczna wytrzymałość mechaniczna i plastyczność,
dobra przewodność elektryczna,
zbliżone współczynniki rozszerzalności cieplnej lutu
i łączonych metali,
dobra i w miarę zbliżona odporność lut i metali łączonych na korozję,
trudne utlenianie lutu w stanie ciekłym,
brak drogich, deficytowych i szkodliwych dla zdrowia pierwiastków.
Spoiwa lutownicze - luty
Wymagania stawiane lutom:
Podstawowym składnikiem lutów jest CYNA
Podstawowym składnikiem lutów jest CYNA –
– Sn;
Sn;
Przemiana alotropowa Sn w temperaturze 13,2
Przemiana alotropowa Sn w temperaturze 13,2
0
0
C => „zaraza
C => „zaraza
cynowa”;
cynowa”;
Przeciwdziałanie „zarazie cynowej”
Przeciwdziałanie „zarazie cynowej” –
– dodatek 5% ołowiu;
dodatek 5% ołowiu;
0,5% antymonu; lub 0,1% bizmutu
0,5% antymonu; lub 0,1% bizmutu
Luty:
Spoiwa lutownicze - luty
Luty ołowiowe:
Sn63Pb37
Sn63Pb37
roztwór stały Sn w Pb (
roztwór stały Sn w Pb (
εε
))
roztwór stały Pb w Sn (
roztwór stały Pb w Sn (
η
η
))
εε
w
w
εε
+
+
η
η
η
η
w
w
εε
+
+
η
η
Wykres fazowy stopu cyna – ołów (SnPb)
Spoiwa lutownicze - luty
Niska temperatura topnienia (183
Niska temperatura topnienia (183
0
0
C);
C);
Dodatek ołowiu zmniejsza skłonność do rozpuszczania Cu i Ag
Dodatek ołowiu zmniejsza skłonność do rozpuszczania Cu i Ag
w lutowiu;
w lutowiu;
Silne mechaniczne połączenie z: Cu, Sn, Pb, Ag, Au (Pb zmniejsza
Silne mechaniczne połączenie z: Cu, Sn, Pb, Ag, Au (Pb zmniejsza
napięcie powierzchniowe Sn i poprawia zwilżalność);
napięcie powierzchniowe Sn i poprawia zwilżalność);
Odporność na utlenianie w trakcie eksploatacji urządzenia;
Odporność na utlenianie w trakcie eksploatacji urządzenia;
Niska rezystancja;
Niska rezystancja;
Doskonała znajomość technologiczna procesu lutowania z
Doskonała znajomość technologiczna procesu lutowania z SnPb
SnPb..
Właściwości połączenia eutektycznego SnPb:
Spoiwa lutownicze - luty
17
Dyrektywa Unii Europejskiej nr 2002/95/EC „
Dyrektywa Unii Europejskiej nr 2002/95/EC „Rsetriction
Rsetriction of
of the
the use
use
of
of certain
certain Hazardous
Hazardous Substances
Substances in
in electrical
electrical and electronic
and electronic
equipment
equipment” (
” (RoHS
RoHS) czyli dyrektywa o ograniczeniu stosowania
) czyli dyrektywa o ograniczeniu stosowania
określonych
określonych sybstancji
sybstancji niebezpiecznych;
niebezpiecznych;
Nowelizacja prawa w krajach członkowskich do 13 sierpnia 2004;
Nowelizacja prawa w krajach członkowskich do 13 sierpnia 2004;
Przewidywany termin wprowadzenia technologii bezołowiowej
Przewidywany termin wprowadzenia technologii bezołowiowej -- do
do
31 grudnia 2005;
31 grudnia 2005;
Ostateczny termin dostosowania technologii
Ostateczny termin dostosowania technologii –
– 1 lipca 2006.
1 lipca 2006.
Konieczność zastąpienia spoiwa SnPb:
Spoiwa lutownicze - luty
Luty bezołowiowe:
63
37
183 183
62
36
2
179 179
92
92
3,3
3,3
4,7
4,7
210 215
210 215
90
90
3,3
3,3
3,7 3
3,7 3
206 211
206 211
83,4
83,4
4,1 0,5 12
4,1 0,5 12
185 195
185 195
93 0,5
93 0,5
6
6
0,5
0,5
209 214
209 214
Skład spoiwa (% masy)
Temp. (
O
C)
sol. liq.
Sn Pb Ag Cu In Bi Ga
Sn Pb Ag Cu In Bi Ga
96,5
96,5
3 0,5
3 0,5
217 219
217 219
95,7
95,7
3,6 0,7
3,6 0,7
217 218
217 218
95,5
95,5
4 0,5
4 0,5
217 219
217 219
96
96
2,5 0,5 1
2,5 0,5 1
214 218
214 218
96,5 3,5
96,5 3,5
215 221
215 221
Spoiwa lutownicze - luty
Temperatura solidusu ponad 30
Temperatura solidusu ponad 30
0
0
C wyższa niż w przypadku
C wyższa niż w przypadku SnPb
SnPb;;
Znacząco twardsze i sztywniejsze materiały niż
Znacząco twardsze i sztywniejsze materiały niż SnPb
SnPb;;
Wysoka zawartość cyny powoduje niebezpieczeństwo powstawania
Wysoka zawartość cyny powoduje niebezpieczeństwo powstawania
„wąsów” (
„wąsów” (whiskersów
whiskersów);
);
Większa różnorodność powstających defektów;
Większa różnorodność powstających defektów;
Odporność na uszkodzenia zmęczeniowe maleje wraz z zawartością Ag;
Odporność na uszkodzenia zmęczeniowe maleje wraz z zawartością Ag;
Odporność na udary mechaniczne rośnie wraz z zawartością Ag.
Odporność na udary mechaniczne rośnie wraz z zawartością Ag.
Luty bezołowiowe SAC i SAC+X+Y:
Spoiwa lutownicze - luty
temperatura topnienia niższa, a temperatura wrzenia wyższa od
temperatura topnienia niższa, a temperatura wrzenia wyższa od
temperatury topnienia lutu ;
temperatury topnienia lutu ;
obojętność chemiczna względem lutowanych metali i lutu,
obojętność chemiczna względem lutowanych metali i lutu,
agresywność wobec warstwy tlenków i innych związków
agresywność wobec warstwy tlenków i innych związków
niemetalicznych;
niemetalicznych;
wypływanie pozostałości topnika i rozpuszczonych w nim związków
wypływanie pozostałości topnika i rozpuszczonych w nim związków
na powierzchnię lutu;
na powierzchnię lutu;
łatwe usuwanie resztek topnika i powstałego żużla;
łatwe usuwanie resztek topnika i powstałego żużla;
niezmienność składu chemicznego i właściwości przy dłuższym
niezmienność składu chemicznego i właściwości przy dłuższym
przechowywaniu;
przechowywaniu;
brak składników szkodliwych dla zdrowia i środowiska.
brak składników szkodliwych dla zdrowia i środowiska.
Topniki - wymagania:
Topniki
typu
typu no
no--clean
clean,
, low
low solid (
solid (nie wymagające mycia, o małej zawartości
części stałych),
),
oparte na żywicach syntetycznych bądź naturalnych
oparte na żywicach syntetycznych bądź naturalnych
(np.
(np. kalafoniowe),
),
w celu zwiększenia ich aktywności dodaje się aktywatory;
w celu zwiększenia ich aktywności dodaje się aktywatory;
zaleca się usuwanie pozostałości tych topników po procesie lutowania;
zaleca się usuwanie pozostałości tych topników po procesie lutowania;
wodne,
wodne,
topniki
topniki wysokoaktywowane
wysokoaktywowane, które muszą być zmywane po procesie
, które muszą być zmywane po procesie
lutowania;
lutowania;
zmywanie z wykorzystaniem podgrzewanej wody pod ciśnieniem;
zmywanie z wykorzystaniem podgrzewanej wody pod ciśnieniem;
Topniki można podzielić na trzy grupy:
Topniki
Wykorzystywane w lutowaniu rozpływowym.
Wykorzystywane w lutowaniu rozpływowym.
Skład past lutowniczych:
Skład past lutowniczych:
LUT
LUT -- proszek lutowniczy (około 90% proporcji wagowej; 50% proporcji
proszek lutowniczy (około 90% proporcji wagowej; 50% proporcji
objętościowej)
objętościowej)
NOŚNIK (około 10% proporcji wagowej; około 50% proporcji
NOŚNIK (około 10% proporcji wagowej; około 50% proporcji
objętościowej)
objętościowej)
Topnik
Topnik
Rozpuszczalniki
Rozpuszczalniki
inne
inne
Pasty lutownicze
Pasty lutownicze:
18
Pasty lutownicze – podstawowe zadania:
wymagania stawiane spoiwom;
wymagania stawiane spoiwom;
stabilizacja elementów elektronicznych w czasie układania
stabilizacja elementów elektronicznych w czasie układania
i lutowania;
i lutowania;
możliwość drukowania lub dozowania ciśnieniowego;
możliwość drukowania lub dozowania ciśnieniowego;
oczyszczanie pól lutowniczych i końcówek elementów przed fazą
oczyszczanie pól lutowniczych i końcówek elementów przed fazą
zasadniczego lutowania;
zasadniczego lutowania;
dobra zwilżalność;
dobra zwilżalność;
uniemożliwienie dostępu tlenu do lutu w trakcie lutowania
uniemożliwienie dostępu tlenu do lutu w trakcie lutowania
i krzepnięcia.
i krzepnięcia.
Pasty lutownicze
Reologia (
rheos –
prąd, nurt;
logos –
nauka)
nauka o prawach powstawania i narastania w czasie odkształceń
mechanicznych materiałów w różnych warunkach
termodynamicznych i fizykochemicznych.
Nauka o deformacji i płynięciu materiałow pod wpływem sił
odkształcających.
Podstawowym parametrem decydującym o własnościach
reologicznych materiałów jest lepkość.
Pasty lutownicze – właściwości reologiczne:
Pasty lutownicze
Tiksotropowość
Tiksotropowość:
: izotermiczna zmiana konsystencji cieczy pod
wpływem ruchu mechanicznego, która utrzymuje się przez pewien czas
po ustaniu działania siły.
Zjawisko to manifestuje się inna lepkość pasty w trakcie jej tłoczenia
i po nałożeniu na pola lutownicze
Pasty lutownicze – właściwości reologiczne:
Pasty lutownicze
Pasty lutownicze – podstawowe właściwości:
kleistość
kleistość
osiadanie
osiadanie
koalescencja
koalescencja
zwilżalność
zwilżalność
zawartość zanieczyszczeń jonowych
zawartość zanieczyszczeń jonowych
Pasty lutownicze
Nanoszenie past lutowniczych:
Z dozownika – średnica igły większa niż 7-krotność (standardowo 10-
krotność) średnicy największych ziaren w paście;
Drukiem przez sito (aktualnie metoda mało popularna);
Drukiem przez szablon.
Pasty lutownicze
Szerokość okna w szablonie ograniczona wielkością ziaren w
Szerokość okna w szablonie ograniczona wielkością ziaren w pascie
pascie
lutowniczej;
lutowniczej;
Grubość szablonu ograniczona wymiarem charakterystycznym
Grubość szablonu ograniczona wymiarem charakterystycznym
okien w szablonie ze względu na:
okien w szablonie ze względu na:
druk pasty
druk pasty
odrywanie szablonu od PCB
odrywanie szablonu od PCB
Grubość szablonu ograniczona rozstawem wyprowadzeń elementów.
Grubość szablonu ograniczona rozstawem wyprowadzeń elementów.
Pasty lutownicze – szablony:
Pasty lutownicze
19
LUTOWNOŚĆ
LUTOWNOŚĆ –
– PODATNOŚĆ POWIERZCHNI METALU NA ZWILŻANIE
PODATNOŚĆ POWIERZCHNI METALU NA ZWILŻANIE
PRZEZ LUT W OKREŚLONYCH WARUNKACH (UWZGLĘDNIAJĄC
PRZEZ LUT W OKREŚLONYCH WARUNKACH (UWZGLĘDNIAJĄC
STRUKTURĘ I STAN POWIERZCHNI, RODZAJ ZASTOSOWANEGO
STRUKTURĘ I STAN POWIERZCHNI, RODZAJ ZASTOSOWANEGO
TOPNIKA, SKŁAD LUTU, CZAS I TEMPERATURA LUTOWANIA)
TOPNIKA, SKŁAD LUTU, CZAS I TEMPERATURA LUTOWANIA)
Połączenie lutowane – lutowność:
Lutowność
t
z
linia wyporu
linia zerowa meniskografu
Czas [s]
Siła
[mN]
Badanie lutowności:
Lutowność
Czas zwilżenia
Czas zwilżenia tt
Z
Z
[s]
[s]- czas od momentu zetknięcia się testowej płytki miedzianej
z powierzchnią roztopionego stopu lutowniczego do momentu gdy kąt zwilżania
wyniesie 90
0
.
CZAS ZWILŻENIA
CZAS ZWILŻENIA
tt
Z
Z
≤ 2 s
≤ 2 s
t
z
F
max
linia wyporu
linia zerowa meniskografu
Czas [s]
Siła
[mN]
Badanie lutowności:
Lutowność
Maksymalna siła zwilżenia
Maksymalna siła zwilżenia
P
P
max
max
=
= F
F
max
max
/ L
/ L
F
max
[mN] – siła zwilżania
L – długość zanurzenia metalicznej części próbki
MAKSYMALNA
MAKSYMALNA
SIŁA ZWILŻENIA
SIŁA ZWILŻENIA
P
P
max
max
≥ 120 mN/m
≥ 120 mN/m
Zależność kąta zwilżenia od powierzchni rozpływu
Lutowność – kąt zwilżenia:
KĄT ZWILŻENIA
KĄT ZWILŻENIA
–
– MIARA LUTOWNOŚCI
MIARA LUTOWNOŚCI
–
– KRYTERIUM OCENY JAKOŚCI
KRYTERIUM OCENY JAKOŚCI
POŁĄCZENIA
POŁĄCZENIA
Lutowność
INŻYNIERIA MATERIAŁOWA
I
KONSTRUKCJA SPRZĘTU
Połączenia elektryczne,
połączenia lutowane i błędy lutownicze
NA FALI
ROZPŁYWOWE
R
Ę
CZNIE
Metody lutowania:
PRODUKCJA MASOWA
PRODUKCJA MASOWA
Połączenia lutowane
20
Montaż powierzchniowy – operacje technologiczne poprzedzające
lutowanie na fali:
Dozowanie/drukowanie kleju
Układanie elementów
Utwardzanie kleju
Odwracanie płytki
Lutowanie na fali
Fazy procesu lutowania na fali:
Topnikowanie
Podgrzewanie wstępne
Podgrzewanie wtórne
Lutowanie na fali
Lutowanie na fali
Fazy procesu lutowania na fali:
Topnikowanie
METODA PIANOWA
METODA FALOWA
METODA NATRYSKOWA
Podgrzewanie wstępne
Podgrzewanie wtórne
Lutowanie na fali
Grubo
ść
warstwy mokrego topnika
Grubo
ść
warstwy mokrego topnika
3
3 –
– 20 mikrometrów
20 mikrometrów
Lutowanie na fali
Fazy procesu lutowania na fali:
Topnikowanie
Podgrzewanie (wstępne+ wtórne)
CEL:
Podgrzanie płytki podłożowej (
Podgrzanie płytki podłożowej (eliminacja szoku cieplnego, który może
powodować uszkodzenie elementów oraz odkształcenia PCB; przyspieszenie
lutowania i skrócenie osiągania przez płytkę temp. ciekłego lutu).
).
Odparowanie rozpuszczalnika;
Odparowanie rozpuszczalnika;
Uaktywnienie topnika;
Uaktywnienie topnika;
ŹRÓDŁA CIEPŁA:
Gorące powietrze;
Gorące powietrze;
Promienniki bliskiej i dalekiej podczerwieni.
Promienniki bliskiej i dalekiej podczerwieni.
Lutowanie na fali
Lutowanie na fali
Lutowanie na fali:
STREFA
TRANSFERU
CIEPŁA
WEJ
Ś
CIE
NA FAL
Ę
STREFA SCHO-
DZENIA Z FALI
FALA
LUTOWNICZA
Lutowie odrywa si
ę
od zwil
ż
onych
Lutowie odrywa si
ę
od zwil
ż
onych
powierzchni w punkcie X
powierzchni w punkcie X
2
2
a niezwil
ż
onych
a niezwil
ż
onych
w punkcie X
w punkcie X
1
1
X
X
2
2
–
– X
X
1
1
mo
ż
e wynie
ś
nawet 25 mm
mo
ż
e wynie
ś
nawet 25 mm
Lutowanie na fali
Lutowanie na fali:
POJEDYNCZEJ
Fala stacjonarna (
LAMINARNA
) – płytka powinna poruszać się z tą samą
prędkością co wypływający lut => eliminacja „sopli”; wada: efekt
cieniowania;
Fala strumieniowa
(
TURBULENTNA
)
– eliminacja efektu
cieniowania; wada:
niewystarczająca do
usunięcia nadmiaru lutowia
z łączonych powierzchni;
efekt mostkowania, kuleczko-
wanie.
PODŁO
Ż
E
RUCH PCB
EFEKT „CIENIOWANIA”
EFEKT „CIENIOWANIA”
Lutowanie na fali
21
Lutowanie na fali:
PODWÓJNEJ
Fala laminarna + turbulentna
(pierwsza fala jest falą turbulentną o wysokiej dynamice przepływu;
druga fala jest falą laminarną o wysokiej skuteczności w usuwaniu
nadmiaru lutowia z łączonych powierzchni)
1
2
Lutowanie na fali
Montaż powierzchniowy – operacje technologiczne poprzedzające
lutowanie rozpływowe:
Nanoszenie pasty lutowniczej
Z dozownika;
Drukiem przez sito;
Drukiem przez szablon.
Układanie elementów
Lutowanie rozpływowe
Fazy procesu lutowania rozpływowego:
Nagrzewanie wstępne
Nagrzewanie wstępne
Wygrzewanie
Rozpływ
Chłodzenie
uwolnienie substancji no
ś
nych
uwolnienie substancji no
ś
nych
z pasty, typowy gradient
z pasty, typowy gradient
temperatury
temperatury --2
2
0
0
C/s; temperatura
C/s; temperatura
ko
ń
cowa: 120
ko
ń
cowa: 120
0
0
C
C –
– 160
160
0
0
C
C
w tej fazie nie wyst
ę
puje proces
w tej fazie nie wyst
ę
puje proces
lutowania
lutowania
Lutowanie rozpływowe
Fazy procesu lutowania rozpływowego:
Nagrzewanie wstępne
Wygrzewanie
Wygrzewanie
Rozpływ
Chłodzenie
aktywacja topnika w całej obj
ę
to
ś
ci
aktywacja topnika w całej obj
ę
to
ś
ci
pasty, temperatura powy
ż
ej 145
pasty, temperatura powy
ż
ej 145
0
0
C,
C,
czas 30s
czas 30s--150s
150s
osi
ą
gni
ę
cie jednolitego rozkładu
osi
ą
gni
ę
cie jednolitego rozkładu
temperatury
temperatury
Lutowanie rozpływowe
Fazy procesu lutowania rozpływowego:
Nagrzewanie wstępne
Wygrzewanie
Rozpływ
Rozpływ
Chłodzenie
stopienie składników metalicznych
stopienie składników metalicznych
(temp 215
(temp 215--220
220
0
0
C, czas 30s
C, czas 30s--90s)
90s)
zwil
ż
enie całego pola lutowniczego
zwil
ż
enie całego pola lutowniczego
Lutowanie rozpływowe
Fazy procesu lutowania rozpływowego:
Nagrzewanie wstępne
Wygrzewanie
Rozpływ
Chłodzenie
Chłodzenie
wytworzenie poł
ą
czenia
wytworzenie poł
ą
czenia
elektrycznego i mechanicznego
elektrycznego i mechanicznego
jak najszybsze schłodzenie płytki
jak najszybsze schłodzenie płytki
bez zbytniego obci
ąż
enia
bez zbytniego obci
ąż
enia
napr
ęż
eniami mechanicznymi
napr
ęż
eniami mechanicznymi
Lutowanie rozpływowe
22
Metody lutowania rozpływowego:
W parach nasyconych
W podczerwieni
W warunkach konwekcji naturalnej
W warunkach konwekcji wymuszonej
Lutowanie rozpływowe
λ
(m)
λ
(m)
10
10
--16
16
10
10
5
5
10
10
--3
3
10
10
--6
6
Promieniowanie podczerwone
Promieniowanie podczerwone
bliskie
bliskie
0,72
0,72
µ
m
µ
m
1,5
1,5
µ
m
µ
m
ś
rednie
ś
rednie
5,6
5,6
µ
m
µ
m
dalekie
dalekie
1mm
1mm
Strum
Strum. ciepła
. ciepła:: 50
50 –
– 300W/cm
300W/cm
2
2
Temp:
Temp:
2100
2100
0
0
C
C
duży gradient; degradacja
duży gradient; degradacja
cieplna; wrażliwość na kolor;
cieplna; wrażliwość na kolor;
Strum ciepła
Strum ciepła:: 15
15 –
– 50W/cm
50W/cm
2
2
Temp:
Temp:
750
750--1400
1400
0
0
C
C
duża gęstość upakowania;
duża gęstość upakowania;
mała wrażliwość na kolor;
mała wrażliwość na kolor;
Strum. ciepła
Strum. ciepła:: 4W/cm
4W/cm
2
2
Temp:
Temp:
400
400--900
900
0
0
C
C
brak wrażliwości na kolor;
brak wrażliwości na kolor;
duża równomierność;
duża równomierność;
Lutowanie rozpływowe w podczerwieni:
Lutowanie rozpływowe
Lutowanie rozpływowe w warunkach wymuszonej konwekcji:
Bardziej równomierne nagrzewanie;
Minimalizacja gradientów na płytce drukowanej (w przypadku bliskiej
podczerwieni - 15
0
C; przy źle rozmieszczonych podzespołach nawet 30
0
C;
w przypadku procesu lutowania bezołowiowego wymagany jest gradient
nie przekraczający kilku
0
C);
Większa skuteczność przekazywania ciepła;
Większa wydajność.
Lutowanie rozpływowe
NA FALI
ROZPŁYWOWE
Lutowanie rozpływowe
Połączenia na bazie naprężeń stykowych
Połączenia wykorzystujące naprężenia stykowe:
Owijane;
Zaciskane;
Zakleszczane;
Rozłączne.
Połączenia owijane:
Połączenie owijane powstaje
w wyniku owinięcia 6 -9 zwojów
odizolowanego końca przewodu
(miedzianego) na końcówce
montażowej.
Końcówka montażowa musi mieć
kilka ostrych krawędzi i charaktery-
zować się dużą sprężystością.
Siła naciągu drutu powoduje powstanie
naprężeń na styku przewodu i końcówki
oraz jej sprężyste skręcenie.
Stosowane tylko w przypadku
przewodów drutowych o przekroju
okrągłym!!!
Owijany
Owijany
przewód
przewód
Ko
ń
cówka
Ko
ń
cówka
monta
ż
owa
monta
ż
owa
K
ą
t
K
ą
t
skr
ę
cenia
skr
ę
cenia
Połączenia na bazie naprężeń stykowych
23
Połączenia owijane:
Ze względów wymiarowych: połączenia normalnowymiarowe (przewód o
średnicy 0,5 mm; przekątna końcówki montażowej powyżej 1,2 mm) oraz
miniaturowe.
Druty o średnicach powyżej 1,0 mm są zbyt sztywne; o średnicach poniżej
0,15 mm zrywają się.
Dwie odmiany połączeń: połączenia zwykłe oraz połączenia zmodyfikowane
POŁ
Ą
CZENIE ZWYKŁE
POŁ
Ą
CZENIE ZWYKŁE
POŁ
Ą
CZENIE ZMODYFIKOWANE
POŁ
Ą
CZENIE ZMODYFIKOWANE
Połączenia na bazie naprężeń stykowych
Połączenia owijane - cechy:
+
połączenie gazoszczelne;
+
duża trwałość (naprężenia zmniejszają się o połowę po 40 latach);
+
zapewnia bezawaryjną pracę w szerokim zakresie napięć i prądów
(ograniczenia wynikające ze średnicy stosowanych drutów);
+
duża niezawodność w każdym środowisku;
+
brak podgrzewania elementów przy tworzeniu połączenia;
+
mała rezystancja połączenia;
+
duża wytrzymałość mechaniczna i odporność na wibracje (tylko połączenie
modyfikowane);
+
połączenia naprawialne
Połączenia na bazie naprężeń stykowych
Połączenia owijane - cechy:
-
połączenie wykonywane maszynowo (nawijarka);
-
pokojowa temperatura pracy (max. 70ºC)
-
ograniczenie stosowanych drutów (ø 0,15 – 1,0 mm)
Połączenia na bazie naprężeń stykowych
Połączenia zaciskane:
Naprężenia stykowe potrzebne do wytworzenia połączenia uzyskuje się
poprzez zaciśnięcie twardej końcówki montażowej na miękkim przewodzie
miedzianym.
Wywierany nacisk odkształca powierzchnie metalowe i linka wypełnia całą
objętość połączenia.
linka
obejma
Połączenia na bazie naprężeń stykowych
Połączenia zaciskane - cechy:
+
połączenie trwałe;
+
proste do wykonania;
+
zapewnia bezawaryjną pracę w szerokim zakresie
napięć (mV – kV) i prądów (mA – kA);
+
duża szczelność i odporność na korozję;
+
duża niezawodność w każdym środowisku;
+
duża wytrzymałość mechaniczna;
+
odporność na wibracje;
+
mała rezystancja połączenia;
+
brak podgrzewania elementów przy tworzeniu połączenia;
Połączenia na bazie naprężeń stykowych
Połączenia zaciskane - cechy:
-
połączenie nienaprawialne;
-
stosowane tylko w przypadku linek.
Połączenia na bazie naprężeń stykowych
24
Połączenia zakleszczane:
Naprężenia stykowe potrzebne do wytworzenia połączenia uzyskuje się
poprzez wciśnięcie miedzianego przewodu w szczelinę płaskiej sprężystej
końcówki.
Nie ma potrzeby usuwania izolacji z końcówki przewodu.
kontakt spr
ęż
ysty
kontakt spr
ęż
ysty
przewód
przewód
kabel ta
ś
mowy
kabel ta
ś
mowy
zł
ą
cze z kontaktami spr
ęż
ystymi
zł
ą
cze z kontaktami spr
ęż
ystymi
NACISK
NACISK
Połączenia na bazie naprężeń stykowych
Delaminacja
Efekty geometryczne
Cieniowanie,
Mostkowanie,
Efekt nagrobkowy,
Wysysanie spoiwa,
Efekt kuleczkowania,
Zimne połączenia,
Biały osad.
Błędy lutownicze
Objawy:
Spalenie, lub zwęglenie płytki
Separacja warstw laminatu
Zmiana koloru płytki
Czarne punkty
Przyczyny:
Niewłaściwy profil lutowniczy
Niewłaściwy typ zastosowanego laminatu dla wybranej
technologii montażu i lutowania
DELAMINACJA:
DELAMINACJA
(przegrzanie płytki)
WŁA
Ś
CIWY PROFIL
LUTOWNICZY
Błędy lutownicze
Różna pozycja na płytce, różne właściwości w czasie lutowania
EFEKTY GEOMETRYCZNE:
Błędy lutownicze
Objawy:
lutowie nie dociera do wypro-
wadzenia ani do pola lutowni-
czego, w efekcie nie powstaje
połączenia lutownicze.
Rozwiązania:
specjalne kształty wyprowadzeń,
turbulentny przepływ fali lutowniczej
odpowiednie rozmieszczenie geometryczne elementów w stosunku do
kierunku fali lutowniczej
CIENIOWANIE:
PODŁO
Ż
E
RUCH PCB
EFEKT „CIENIOWANIA”
EFEKT „CIENIOWANIA”
Błędy lutownicze
CIENIOWANIE:
Optymalne rozmieszczenie podzespołów podczas lutowania na fali
Błędy lutownicze
25
Objawy:
Tworzenie się mostków (zwarć)
pomiędzy wyprowadzeniami.
Rozwiązania:
Zabiegi projektowe oraz
technologiczne zależne
od metody lutowania.
MOSTKOWANIE
Błędy lutownicze
Lutowanie na fali - rozwiązania:
Wprowadzanie pułapek lutowia, czyli pól zbierających nadmiar
lutowia;
Odpowiednie rozmieszczenie elementów; (np.: układy SOIC rów-
nolegle do kierunku fali, układy w obudowach QFP pod kątem 45
0
C);
MOSTKOWANIE
Błędy lutownicze
Lutowanie na fali - rozwiązania:
Pochylenie transportera płytek,
Kształtowanie fali (płytki odchylające; fala podwójna).
MOSTKOWANIE
GRAWITACJA
FALA
LUTOWNICZA
SIŁY WI
Ą
ZANIA
SIŁY
Ś
CINAJ
Ą
CE
NAJLEPIEJ GDY PŁYTKI
NAJLEPIEJ GDY PŁYTKI
WCHODZ
Ą
NA FALE
WCHODZ
Ą
NA FALE
POD K
Ą
TEM 4
POD K
Ą
TEM 4 –
– 9
9
0
0
(6
(6 --8
8
0
0
))
Błędy lutownicze
Lutowanie rozpływowe - przyczyny:
Zbyt duża ilość pasty na polu lutowniczym;
Niedokładne ułożenie pasty na polu lutowniczym (rozsmarowanie,
niedopasowanie wzoru);
Pasta o niewłaściwych parametrach (np: pasta zbyt stara, utleniona,
niedopasowanie materiałów itp.)
MOSTKOWANIE
Błędy lutownicze
Lutowanie rozpływowe - rozwiązania:
polepszenie precyzji i rozdzielczości druku,
właściwe dobranie objętości pasty lutowniczej,
spowolnienie nagrzewania wstępnego,
użycie topników o krótszym czasie zwilżania.
Objawy:
Mały podzespół w wyniku lutowania „staje” na jednym ze swoich
wyprowadzeń.
EFEKT NAGROBKOWY
Błędy lutownicze
Przyczyny:
Niewłaściwy projekt pół lutowniczych,
Mała dokładność układania elementów,
Nieodpowiednia ilość pasty
na polu lutowniczym,
Nieodpowiedni docisk
elementu w procesie
układania,
Nierównomierna szybkość
zwilżania w obrębie PCB.
Rozwiązanie:
Należy sprawdzić reguły projektowania ścieżek, jakość druku
i lutowność podzespołów;
Spowolnienie szybkości nagrzewania oraz wydłużenie czasu
nagrzewania;
Zastosowanie topnika o dłuższym czasie zwilżania (istnieje
niebezpieczeństwo mostkowania).
EFEKT NAGROBKOWY
Błędy lutownicze
26
Objawy:
Pocynowane wyprowadzenie podzespołu pochłania lutowie nie
pozostawiając go na punkcie lutowniczym.
WYSYSANIE SPOIWA
Przyczyny:
Gradient temperatur pomiędzy
płytka a wyprowadzeniem.
Wyprowadzenie o wyższej
temperaturze topi lut i pocynowana
warstwa absorbuje lutowie.
Błędy lutownicze
Rozwiązania:
Poprawny profil lutowania,
Podzespoły o gwarantowanej planarności wyprowadzeń,
Topniki o temperaturze aktywacji w pobliżu temperatury rozpływu,
Końcówki elementów metalizowane stopem o temperaturze topnienia
wyższej niż temperatura topnienia stopu lutowniczego.
WYSYSANIE SPOIWA
Błędy lutownicze
Przyczyny:
nadmiernie duża frakcja drobnego ziarna,
utlenione spoiwo,
nadmierne osiadanie pasty,
rozprysk spoiwa,
zły profil lutowania,
źle dobrana aktywność topnika,
nadmierny docisk podzespołu
w procesie układania na płytce,
źle zaprojektowane pola lutownicze,
niewłaściwa maska przeciwlutowa.
EFEKT KULECZKOWANIA
Błędy lutownicze
Rozwiązania materiałowe:
świeża pasta lutownicza o dopraco-
wanym składzie pod kątem aktyw-
ności topnika i osiadania, nie
zawierająca i nie chłonąca wilgoci,
unikanie past o dużej frakcji
ziaren, poniżej 25
µ
m,
dobra lutowność wyprowadzeń podzespołów,
właściwe zaprojektowanie pól lutowniczych
względem metalizacji podzespołów,
odpowiednia maska przeciwlutowa
EFEKT KULECZKOWANIA
Błędy lutownicze
Rozwiązania technologiczne:
pole nadruku pasty mniejsze od pola lutowniczego na płytce
drukowanej,
prawidłowy druk pasty, bez przesunięć i rozsmarowań,
prawidłowe mycie szablonów,
unikanie przedłużonej czasowo ekspozycji pasty w atmosferze
powietrza,
weryfikacja profilu lutowania.
EFEKT KULECZKOWANIA
Błędy lutownicze
Przyczyny:
niedostateczna ilość lub brak pasty na polu lutowniczym
brak koplanarności końcówek elementów,
nadmierne zanieczyszczenie pól lutowniczych lub końcówek
elementów,
niewłaściwa aktywność lub przedwczesna utrata aktywności przez
topnik,
zły profil lutowania.
ZIMNE POŁĄCZENIA
Błędy lutownicze
27
Najczęściej błędy pojawiają się na etapie:
Lutowanie rozpływowe
DRUKOWANIE
DRUKOWANIE
PASTY
PASTY
UKŁADANIE
UKŁADANIE
ELEMENTÓW
ELEMENTÓW
LUTOWANIE
LUTOWANIE
B
Ł
Ę
D
Y
[
%
]
B
Ł
Ę
D
Y
[
%
]
60%
20%
10%
Błędy lutownicze
Mostkowanie
Delaminacja
Zimne luty
Niepełny rozpływ
lutu
Kuleczkowanie
Efekt nagrobkowy
Podniesione elem.
Z
a
n
ie
c
z
y
s
z
c
z
e
n
ie
p
o
w
ie
rz
c
h
n
i
Z
b
y
t
n
is
k
a
t
e
m
p
.
lu
to
w
ia
Z
b
y
t
w
y
s
o
k
a
t
e
m
p
.
lu
to
w
ia
N
ie
ró
w
n
o
m
ie
rn
y
ro
z
k
ła
d
t
e
m
p
N
ie
d
o
b
ó
r
to
p
n
ik
a
Z
b
y
t
n
is
k
a
p
r
ę
d
k
o
ś
ć
p
rz
e
s
u
w
u
p
rz
e
n
o
ś
.
Z
b
y
t
d
u
ż
a
p
r
ę
d
k
o
ś
ć
p
rz
e
s
u
w
u
p
rz
e
n
o
ś
.
N
a
ra
ż
e
n
ie
n
a
w
ib
ra
c
je
w
t
ra
k
c
ie
k
rz
e
p
.
N
ie
je
d
n
o
ro
d
n
a
fa
la
l
u
to
w
n
ic
z
a
Błędy profilu lutowania rozpływowego
INŻYNIERIA MATERIAŁOWA
I
KONSTRUKCJA SPRZĘTU
Operacje kontrolno-pomiarowe
Operacje kontrolno-pomiarowe
Operacje kontrolno-pomiarowe mogą być zorientowane na:
Zapobieganie defektom
Odpowiednie sterowanie parametrami procesów technologicznych oraz
ich ewentualna korekcja;
Kontrola materiałów wejściowych (ewentualna modyfikacja);
Kontrola jakości podzespołów przed montażem;
Wykrywanie defektów
Wykrywanie defektów tuż po montażu
„Im wcześniej znajdziesz i naprawisz defekt
„Im wcześniej znajdziesz i naprawisz defekt
tym mniej będzie Cię to kosztowało”
tym mniej będzie Cię to kosztowało”
Klasyfikacja testów kontrolno-pomiarowych:
IN
IN--LINE
LINE
Sprawdzenie poprawności poszczególnych operacji w linii produkcyjnej;
Systemy automatyczne lub półautomatyczne (większy obiektywizm)
pracujące w pętli sprzężenia zwrotnego;
Dedykowane do konkretnej linii produkcyjnej (wysoki koszt);
OFF
OFF--LINE
LINE
Umieszczane w pobliżu więcej niż jednej linii produkcyjnej;
Bardziej elastyczne rozwiązania umożliwiające testowanie na różnych
etapach wytwarzania obwodów drukowanych (wolniejsze, niższy koszt);
Wdrażanie nowych wyrobów, przezbrajanie linii produkcyjnej.
Operacje kontrolno-pomiarowe
Rodzaje testów:
MVI
MVI (Manual Visual Inspection) – test wizualny
AOI
AOI (Automatic Otical Inspection) – automatyczny test optyczny
ICT
ICT (In-circuit Test) – test wewnątrzobwodowy
IR
IR (Infrared Thermal Imaging System) – automatyczny test
promieniami podczerwonymi
AXI
AXI (Automatic X-ray Inspection) – automatyczny inspekcja
rentgenowska
FT
FT (Functional Test) – test funkcjonalny
Operacje kontrolno-pomiarowe
28
Test wizualny MVI:
Przeprowadzany jest okiem nieuzbrojonym lub z wykorzystaniem
Przeprowadzany jest okiem nieuzbrojonym lub z wykorzystaniem
mikroskopu (standardowe powiększenie 2 do 10 razy; wymagania
mikroskopu (standardowe powiększenie 2 do 10 razy; wymagania
mogą być wyższe np.: inspekcja otworów metalizowanych nawet
mogą być wyższe np.: inspekcja otworów metalizowanych nawet
100 razy);
100 razy);
Człowiek:
Człowiek:
1/500 s aby zidentyfikować obiekt;
1/500 s aby zidentyfikować obiekt;
Oko ludzkie potrafi się adaptować
Oko ludzkie potrafi się adaptować
do różnych warunków;
do różnych warunków;
Ocena subiektywna.
Ocena subiektywna.
Test obszarów wymaga wzrokowego dostępu.
Test obszarów wymaga wzrokowego dostępu.
Operacje kontrolno-pomiarowe
Automatyczna inspekcja optyczna AOI:
Może być integrowana w różnych miejscach
Może być integrowana w różnych miejscach
linii produkcyjnej;
linii produkcyjnej;
Obrazy w odcieniach szarości oraz kolorowe;
Obrazy w odcieniach szarości oraz kolorowe;
Elementy zakwestionowane w teście AOI
Elementy zakwestionowane w teście AOI
zostają poddane testowi MVI;
zostają poddane testowi MVI;
Wykrywane defekty:
Wykrywane defekty:
Brakujące lub odwrócone elementy,
Brakujące lub odwrócone elementy, odwróco
odwróco--
na polaryzacja oraz efekt nagrobkowy;
na polaryzacja oraz efekt nagrobkowy;
Mostki, przesunięcia i rotację elementów;
Mostki, przesunięcia i rotację elementów;
Defekty geometryczne ;
Defekty geometryczne ;
CCD
CCD
SKANER
SKANER
PRZETWARZANIE
PRZETWARZANIE
SYGNAŁÓW
SYGNAŁÓW
KOMPUTEROWY
KOMPUTEROWY
SYSTEM
SYSTEM
STEROWANIA
STEROWANIA
Operacje kontrolno-pomiarowe
Kontrola wizualna na etapie nadruku pasty lutowniczej:
Ilość pasty na indywidualnym polu lutowniczym 0,8 mg/mm
Ilość pasty na indywidualnym polu lutowniczym 0,8 mg/mm
2
2
(w przypadku podzespołów typu
(w przypadku podzespołów typu fine
fine--pitch
pitch –
– 0,5 mg/mm
0,5 mg/mm
2
2
);
);
Dopuszczalne odchylenie masy pasty
Dopuszczalne odchylenie masy pasty
±±
20%;
20%;
Dla podzespołów typu 0805, 1206 lub SOT23 przesunięcie
Dla podzespołów typu 0805, 1206 lub SOT23 przesunięcie
nadruku nie powinno przekraczać 0,2 mm, a dla QFP o rastrze
nadruku nie powinno przekraczać 0,2 mm, a dla QFP o rastrze
mniejszym niż 0,8mm nie powinno przekraczać 0,1 mm;
mniejszym niż 0,8mm nie powinno przekraczać 0,1 mm;
Nadruk o większych przesunięciach kwalifikuje się
Nadruk o większych przesunięciach kwalifikuje się
do zmycia i ponownego nałożenia
do zmycia i ponownego nałożenia
Kontrola wizualna
Inspekcja rentgenowska AXI:
Prześwietlenie promieniami X umożliwia wykrycie wad w obszarach
Prześwietlenie promieniami X umożliwia wykrycie wad w obszarach
niedostępnych dla systemów AOI;
niedostępnych dla systemów AOI;
Systemy AXI dają obrazy w odcieniach szarości; obszary o większej
Systemy AXI dają obrazy w odcieniach szarości; obszary o większej
gęstości/grubości
gęstości/grubości –
– obszary ciemniejsze;
obszary ciemniejsze;
Operacje kontrolno-pomiarowe
Inspekcja rentgenowska AXI:
Wysoka rozdzielczość, duże powiększenie;
Wysoka rozdzielczość, duże powiększenie;
Inspekcja bezinwazyjna z możliwością zmiany kąta nachylenia;
Inspekcja bezinwazyjna z możliwością zmiany kąta nachylenia;
Możliwość testowania gęsto upakowanych płytek;
Możliwość testowania gęsto upakowanych płytek;
Wykrywane defekty
Wykrywane defekty
Mostki, rozwarcia;
Mostki, rozwarcia;
Podniesione wyprowadzenia;
Podniesione wyprowadzenia;
Przemieszczenie podzespołów, efekt nagrobkowy;
Przemieszczenie podzespołów, efekt nagrobkowy;
Pustki lub niedopuszczalne zmiany kształtu;
Pustki lub niedopuszczalne zmiany kształtu;
Defekty w BGA (mostki, pustki, brakujące kuleczki, brak scentrowania).
Defekty w BGA (mostki, pustki, brakujące kuleczki, brak scentrowania).
Operacje kontrolno-pomiarowe
Porównanie AOI oraz AXI:
AOI
AXI
Operacje kontrolno-pomiarowe
29
Zastosowanie różnych systemów w zależności od rodzaju PCB:
ZŁO
Ż
ONO
ŚĆ
OBWODU
ZŁO
Ż
ONO
ŚĆ
OBWODU
O
B
J
Ę
T
O
ŚĆ
O
B
J
Ę
T
O
ŚĆ
MVI
MVI
AOI
AOI
AXI
AXI
AOI & AXI
AOI & AXI
Operacje kontrolno-pomiarowe
Test wewnątrzobwodowy ICT:
Przeprowadzany jest z wykorzystaniem zespołu głowic szpilkowych
Przeprowadzany jest z wykorzystaniem zespołu głowic szpilkowych
w postaci macierzy sond (Bed of
w postaci macierzy sond (Bed of Nails
Nails Method
Method) bądź też kilka sond
) bądź też kilka sond
przemieszczających się nad testowanym obiektem (
przemieszczających się nad testowanym obiektem (Two
Two Probe
Probe,
,
Flying
Flying Probe
Probe Method
Method);
);
Wykrywane defekty: zwarcia, rozwarcia (w wyłączeniem złej jakości
Wykrywane defekty: zwarcia, rozwarcia (w wyłączeniem złej jakości
połączeń lutowanych tymczasowo eliminowanych pod wpływem
połączeń lutowanych tymczasowo eliminowanych pod wpływem
nacisku), zdefektowane lub złe podzespoły;
nacisku), zdefektowane lub złe podzespoły;
W przypadku utrudnionego dostępu do
W przypadku utrudnionego dostępu do
podzespołu konieczność wprowadzenia
podzespołu konieczność wprowadzenia
na etapie projektowania punktów
na etapie projektowania punktów
testowych.
testowych.
Doskonałe rozwiązanie przy długich
Doskonałe rozwiązanie przy długich
seriach i szybkiej produkcji.
seriach i szybkiej produkcji.
Operacje kontrolno-pomiarowe
Test funkcjonalny FT:
Przeprowadzany jest z wykorzystaniem testera pozwalającego na
Przeprowadzany jest z wykorzystaniem testera pozwalającego na
wprowadzenie sygnałów w różne punkty układu, symulacje pracy
wprowadzenie sygnałów w różne punkty układu, symulacje pracy
poszczególnych elementów układu i zbieranie odpowiedzi przez
poszczególnych elementów układu i zbieranie odpowiedzi przez
złącza;
złącza;
Wykonywany jest w ostatniej fazie produkcji;
Wykonywany jest w ostatniej fazie produkcji;
Podstawowe zadanie: weryfikacja funkcjonalności poszczególnych
Podstawowe zadanie: weryfikacja funkcjonalności poszczególnych
elementów i całego układu;
elementów i całego układu;
Operacje kontrolno-pomiarowe
Wykrywalność błędów z wykorzystaniem różnych testów
P
R
Z
E
R
W
A
Z
W
A
R
C
IE
B
R
A
K
E
L
E
M
E
N
T
U
B
Ł
Ą
D
U
Ł
O
Ż
E
N
IA
P
O
LA
R
Y
Z
A
C
JA
W
A
R
T
O
Ś
Ć
F
U
N
K
C
JO
N
A
L-
N
O
Ś
Ć
Z
W
A
R
C
IE
Z
A
S
IL
A
N
IA
MVI
AOI
AXI
IR
ICT
FT
WYKRYWALNOŚĆ: pełna - częściowa - brak
Operacje kontrolno-pomiarowe
Strategie testowania
Wybór strategii testowania zależy od:
Złożoności projektu płytki (rodzaje obudów i wyprowadzeń; rozstaw
Złożoności projektu płytki (rodzaje obudów i wyprowadzeń; rozstaw
wyprowadzeń);
wyprowadzeń);
Różnorodność i wielkość serii (koszt testów zmienia się wraz ze
Różnorodność i wielkość serii (koszt testów zmienia się wraz ze
skalą produkcji);
skalą produkcji);
Precyzja i szybkość techniki testowania (czyli ile czasu potrzeba na
Precyzja i szybkość techniki testowania (czyli ile czasu potrzeba na
znalezienie defektu);
znalezienie defektu);
Koszt testowania (koszt testera, obsługi serwisu, oprogramowania,
Koszt testowania (koszt testera, obsługi serwisu, oprogramowania,
zamocowania itp.).
zamocowania itp.).
Co to jest uzysk?
UZYSK
UZYSK –
– ilość produktów wyjściowych w stosunku do potencjalnej
ilość produktów wyjściowych w stosunku do potencjalnej
ilości wytworzonych produktów;
ilości wytworzonych produktów;
gdzie: DPMO (
gdzie: DPMO (Defects
Defects per Milion
per Milion Opportunities
Opportunities)
) -- liczba defektów
liczba defektów
na milion operacji tego samego typu; N
na milion operacji tego samego typu; N –
– ilość sposobności do
ilość sposobności do
popełnienia błędu
popełnienia błędu
N
6
)
10
DPMO
1
(
U
−−−−
====
„Nie ma
„Nie ma bezdefektowych
bezdefektowych procesów wytwarzania
procesów wytwarzania
ani testowania”
ani testowania”
Strategie testowania
30
Przykład:
Płytka o małej złożoności
Płytka o małej złożoności –
– MAŁA (elektronika konsumencka);
MAŁA (elektronika konsumencka);
Płytka o średniej złożoności
Płytka o średniej złożoności –
– ŚREDNIA (komputer osobisty);
ŚREDNIA (komputer osobisty);
Płytka o bardzo dużej złożoności
Płytka o bardzo dużej złożoności –
– DUŻA (serwer obliczeniowy);
DUŻA (serwer obliczeniowy);
ZŁOŻONOŚĆ
LICZBA
PODZESPOŁÓW
LICZBA
POŁACZEŃ
KOSZT
1szt
WIELKOŚĆ
PRODUKCJI
MAŁA
50
350
20$
2 000 000
ŚREDNIA
500
3500
400$
200 000
DUŻA
2 500
17 500
4 000$
40 000
Strategie testowania
Przykład:
Płytka o małej złożoności
Płytka o małej złożoności –
– MAŁA (elektronika konsumencka);
MAŁA (elektronika konsumencka);
Płytka o średniej złożoności
Płytka o średniej złożoności –
– ŚREDNIA (komputer osobisty);
ŚREDNIA (komputer osobisty);
Płytka o bardzo dużej złożoności
Płytka o bardzo dużej złożoności –
– DUŻA (serwer obliczeniowy);
DUŻA (serwer obliczeniowy);
ZŁOŻONOŚĆ
LICZBA
PODZESPOŁÓW
LICZBA
POŁACZEŃ
SPOSOBNOŚĆ
DO BŁĘDU
UZYSK
MAŁA
50
350
ŚREDNIA
500
3 500
DUŻA
2 500
17 500
400
20 000
2%
92%
4 000
45%
PRZY ZAŁOŻENIU: DPMO = 200
Strategie testowania
Operacje naprawcze
Naprawa to proces wieloetapowy składający się z:
Identyfikacja wadliwego podzespołu;
Identyfikacja wadliwego podzespołu;
Usunięcie wadliwego podzespołu (odlutowanie);
Usunięcie wadliwego podzespołu (odlutowanie);
Przygotowanie powierzchni, czyli usunięcie starego lutu;
Przygotowanie powierzchni, czyli usunięcie starego lutu;
Ułożenie nowego podzespołu, (nałożenie pasty lutowniczej),
Ułożenie nowego podzespołu, (nałożenie pasty lutowniczej),
lutowanie;
lutowanie;
Umycie i sprawdzenie jakości naprawy;
Umycie i sprawdzenie jakości naprawy;
Zabezpieczenie miejsca naprawy.
Zabezpieczenie miejsca naprawy.
Na co należy zwrócić szczególną uwagę w trakcie wymiany
podzespołu:
Jako źródła ciepła do napraw można stosować: gorące powietrze,
Jako źródła ciepła do napraw można stosować: gorące powietrze,
podczerwień, odpowiednie końcówki(
podczerwień, odpowiednie końcówki(termody
termody, laser);
, laser);
Należy uważać aby nie uszkodzić przyległych podzespołów;
Należy uważać aby nie uszkodzić przyległych podzespołów;
Należy minimalizować nacisk na płytkę (stosowanie końcówek);
Należy minimalizować nacisk na płytkę (stosowanie końcówek);
Liczba
Liczba lutowań
lutowań/odlutowań ograniczyć do dwóch;
/odlutowań ograniczyć do dwóch;
Kształt menisku po lutowaniu musi spełniać kryteria jakościowe
Kształt menisku po lutowaniu musi spełniać kryteria jakościowe
połączeń;
połączeń;
Zalecane jest podgrzewanie podłoża w trakcie naprawy;
Zalecane jest podgrzewanie podłoża w trakcie naprawy;
Temperatura końcówek odlutowujących nie powinna przekraczać
Temperatura końcówek odlutowujących nie powinna przekraczać
370
370
0
0
C, a czas odlutowywania nie powinien przekroczyć 3 s.
C, a czas odlutowywania nie powinien przekroczyć 3 s.
Operacje naprawcze
Na co należy zwrócić szczególną uwagę w trakcie wymiany
podzespołu:
Zaleca się stosowanie topników
Zaleca się stosowanie topników niskoaktywnych
niskoaktywnych;;
Przedłużające się grzanie w temperaturze 230
Przedłużające się grzanie w temperaturze 230
0
0
C uszkadza obudowy
C uszkadza obudowy
podzespołów.
podzespołów.
Operacje naprawcze