(Total Reflection X-ray Fluorescence - TXRF) [1]. Chociaż zjawisko całkowitego odbicia tego promieniowania zostało odkryte w 1923 roku przez Comptona, to przez blisko 50 lat nie znaleziono dla niego praktycznego zastosowania w analityce. Yoneda i Horiuchi zaproponowali analizę niewielkiej ilości materiału osadzonego na optycznie gładkiej powierzchni. Pomimo, że zarówno XRF jak i TXRF wykorzystują lampę rentgenowską jako źródło promieniowania wzbudzającego, obie techniki różnią się znacząco geometrią pomiarową. Przekrój wiązki stosowanej w XRF ma charakter owalny, a w TXRF płaski. TXRF wymaga również innego położenia próbki względem wiązki promieniowania wzbudzającego. W dotychczas używanych spektrometrach fluorescencyjnych stosowano zazwyczaj tzw. geometrię 45°/45° - kąt między promieniowaniem wzbudzającym, a próbką wynosił 45° , podobnie jak kąt pomiędzy próbką a detektorem.. W tego rodzaju geometrii pomiarowej do detektora docierało nie tylko promieniowanie charakterystyczne pierwiastków próbki, ale też promieniowanie rozproszone. Powodowało to istotny wzrost natężenia promieniowania tła, na które nakładają się linie promieniowania charakterystycznego. W metodzie TXRF promieniowanie wzbudzające materiał próbki ślizga się po niej pod katem połysku mniejszym od około 0,1°. Promieniowanie pierwotne jest modyfikowane poprzez układy optyczne zanim dotrze do próbki. Dzięki temu docierające do detektora promieniowanie w przeważającej części składa się z promieniowania charakterystycznego. Zminimalizowane tło przyczynia się do znaczącego obniżenia granic wykrywalności. Pozostałe elementy aparatury pomiarowej - takie jak: źródła promieniowania (poza radioizotopami) czy też detektory są takie same jak w metodzie XRF. Inne są sposoby przygotowania próbek, kalibracja, oraz metoda obliczeniowa stosowana w analizie ilościowej. Pod względem przygotowania próbek, oraz możliwości analitycznych technika TXRF wydaje się być bardziej podobna do metod spektroskopowych takich na przykład, jak ogromnie popularna absorpcja atomowa. Na rysunku 1 w sposób uproszczony pokazano różnice w geometrii pomiarowej pomiędzy EDXRF a TXRF. Zaprezentowana geometria TXRF jest jednym z możliwych wariantów (stosowanym w KFMiB). W komercyjnych spektrometrach stosuje się położenie próbki poniżej detektora. W niektórych spektrometrach budowanych w laboratoriach stosowane jest ułożenie boczne, gdzie płaszczyzna reflektora umieszczona jest pionowo. Na rysunku 1 przedstawiono różnice w geometrii pomiarowej EDXRF i TXRF.
7