228 (66)

228 (66)



Rodzaje diod półprzewodnikowych i ich zastosowania


- 228


Część urojona impedancji Z zawiera składową indukcyjną i pojemnościową, czyli dioda tworzy obwód rezonansowy. Częstotliwość rezonansu własnego fx otrzymuje się z przyrównania do zera części urojonej impedancji Z



(4.56)


W katalogach podaje się częstotliwości /,0, fx0 określone zależnościami (4.55), (4.56) przy podstawieniu minimalnej wartości rezystancji dynamicznej rdImpedancja diody tunelowej ma charakter pojemnościowy dla / < fx0 oraz indukcyjny


dla / > fx0.


Dla stabilnej pracy diody jest konieczne, by fx0 > fr0. Zwykle żąda się, by fx0 > /,0 > 3/p, przy czym fp — częstotliwość pracy diody tunelowej.

Z wyprowadzonych zależnośoi wynika, że szybkość działania diody tunelowej jest określona przede wszystkim przez stałą czasową r = Cjrd. W celu zmniejszenia pojemności Oj wykonuje się złącza p+-n+ o jak najmniejszej powierzchni, co jednak prowadzi zarazem do zmniejszenia wartości prądu szczytu IP, a więc powoduje


zwiększenie rezystancji dynamicznej rd. Dlatego pod tym względem najbardziej miarodajnym wskaźnikiem jakości diody jest wartość ilorazu IP/Cj. Iloraz IP/Cj określa szybkość przełączania diody. Zwiększeniu wartości IPIOj sprzyjają


następujące czynniki:

—■ zmniejszanie powierzchni złącza,

—    zwiększanie koncentracji domieszek (w praktyce stosuje się koncentracje na granicy rozpuszczalności),

—    dobór materiału o największej ruchliwości nośników.

Diody tunelowe mogą być wytwarzane z różnych materiałów półprzewodnikowych. Na


rysunku 4.46 porównano charakterystyki prądowo-napięciowe (prąd unormo


Ge BaSb Si    GaAs

! !    / /


I/IP

0    0,2    0,4    06    00    1,0 V


Rys. 4.46

Charakterystyki I(U) dla diod tunelowych z GaSb, Ge, Si, GaAs


Diody krzemowe zdecydowanie ustępują pozostałym ze względu na małą wartość IPjlv oraz małą szybkość działania. W celu uzyskania dużej szybkości działania należy dobrać materiał o dużej ruchliwości nośników. Pod tym względem bardzo dobre


wany do wartości IP) dla diod z GaSb, Ge, Si, GaAs. Najczęściej diody tunelowe są wytwarzane z Ge i GaAs, rzadziej z GaSb i bardzo rzadko z Si. Takie preferencje w doborze materiałów są zrozumiałe, jeżeli porówna się podstawowe parametry diod tunelowych, wykonanych z różnych materiałów, zestawione w tabl. 4.6,


Wyszukiwarka

Podobne podstrony:
220 (64) 220 Rodzaje diod półprzewodnikowych i ich zastosowania a) I p*.^CL Si-n* T 3b) jh Rys.
222 (86) - 222Rodzaje diod półprzewodnikowych i ich zastosowania (złącze skokowe), n < 0 (złącze
224 (68) - 224Rodzaje diod półprzewodnikowych i ich zastosowania wane bardziej rozbudowane układy wz
226 (61) - 226Rodzaje diod półprzewodnikowych i ich zastosowania tunelowych jako elementów o wspóln
230 (63) - 230Rodzaje diod półprzewodnikowych i ich zastosowania właściwości ma InSb. Diody tunelowe
232 (64) - 232Rodzaje diod półprzewodnikowych i ich zastosowania źródło prądowe I(U) —odpowiadająco
234 (60) - 234Rodzaje diod półprzewodnikowych i ich zastosowania Ujemne rezystancje uzyskuje się w d
236 (57) - 236Rodzaje diod półprzewodnikowych i ich zastosowania rezystora równoważnego rezystancji
Rodzaje kół zębatych i ich zastosowanie: Koło zębate jest to część mechanizmu lub maszyny, służąca d
Diody półprzewodnikowe i ich zastosowanie 1.    Złącze pn 2.
CCI20110406007 ;: zzaje złączy półprzewodnikowych i ich zastosowanie iciwme a źródŁ _ aktujem
DSCF0769 144 Rys. 1. Charakterystyki prądowo-napięciowe różnych rodzajów diod 4.2 Półprzewodnikowe e
Str108 (4) 9. ŁOŻYSKA TOCZNE9.1. RODZAJE ŁOŻYSK TOCZNYCH, ICH CHARAKTERYSTYKA I ZASTOSOWANIE Rys. 9.
ASTRO SALUS NATURALNIE DO ZDROWIA, MĄDRZE DO ROZWOJULEKCJA 3. Rodzaje kosmetyków, ich zastosowanie i
scan 6 (3) 66 Rodzaje zarysów gwintów badanych śrub oraz ich wybrane cechy konstrukcyjne zestawiono

więcej podobnych podstron