Ćwiczenie T2 _PTW_ MCM034003L

WYTWARZANIE ELEKTRONICZNYCH UKŁADÓW

GRUBOWARSTWOWYCH

INSTRUKCJA DO ĆWICZENIA LABORATORYJNEGO

prowadzący: mgr inż. Jan Macioszczyk, ul. Długa 61, bud. M-11, p. 123, e-mail:
[e-mail]

1. Cel ćwiczenia

Celem ćwiczenia jest wyznaczenie wartości rezystancji powierzchniowej rezystorów
grubowarstwowych oraz określenie wpływu geometrii na wartość wyznaczanego parametru.

2. Program ćwiczenia

Studenci zostają podzieleni na dwie grupy. Jedna grupa zapoznaje się z technologią sitodruku.
W tym samym czasie druga grupa wykonuje pomiar rezystorów wykonanych na testowym
podłożu.

3. Pomiary

Na podłożach wykonano rezystory o różnych rozmiarach – o 2 szerokościach: (0,3; 0,6 mm)
i 6 długościach (0,3; 0,45; 0,6; 0,9; 1,2; 1,5 mm). W odpowiednich pozycjach w tabeli należy
umieszczać zmierzone wartości rezystancji.

Uwaga: W trakcie pomiarów należy dobrać właściwy zakres pomiarowy omomierza.

4. Opracowanie wyników

Dla rezystorów o tych samych rozmiarach należy obliczyć średnią wartość rezystancji
a następnie wyznaczyć średnią wartość rezystancji powierzchniowej R□.

Należy wykreślić wykres zależności R□ = f(l), gdzie l oznacza długość rezystora. Na jednym
wykresie należy umieścić dwie charakterystyki R□ = f(l) (dla szerokości rezystorów w=0,3
mm i w=0,6 mm).

Na podstawie otrzymanych wyników należy wyciągnąć wnioski na temat wpływu geometrii
rezystora na rezystancję powierzchniową.

5. Zagadnienia do przygotowania

- Etapy procesu wytwarzania elektronicznych układów grubowarstwowych
- Przykłady i charakterystyka podłoży stosowanych w technice sitodruku
- Rodzaje past do sitodruku oraz ich charakterystyka
- Podstawowe parametry elektryczne rezystorów (rezystancja, rezystywność, rezystancja na
kwadrat)
6. Pytania

- Wymienić trzy podstawowe składniki past do sitodruku i ich funkcje
- Wymienić podstawowe właściwości elektryczne i mechaniczne podłoża alundowego
- Jakie materiały stosowane są jako faza funkcjonalna w pastach przewodzących
i rezystywnych
- Jaki jest profil wypalania warstw grubych na podłożach alundowych i dlaczego?
- Jakie atmosfery stosowane są do wypalania warstw grubych i dlaczego?
- Jak oblicza się niezbędną ilość tlenu do wypalania warstw grubych?
- Co to jest rezystywność, rezystancja, rezystancja na kwadrat?
- Jakim rodzajem cieczy musi być pasta do sitodruku i dlaczego?

7. Scenariusz (łączny czas wykonania ćwiczenia 135 minut)

- (10 min., sala dydaktyczna) wstęp teoretyczny do zajęć – przedstawienie tematyki zajęć,
omówienie podstawowych zagadnień związanych z wytwarzaniem grubowarstwowych
układów półprzewodnikowych,
- (15 min., sala dydaktyczna) sprawdzenie przygotowania studentów,
- (10 min., M11/031) podzielenie studentów na dwie grupy i rozdzielenie zadań,
- (40 min., M11/031) pomiar parametrów elektrycznych rezystorów wykonanych na
testowym podłożu,
- (40 min., M11/031) wykonanie testowego grubowarstwowego układu elektronicznego,
- (20 min., M11/031) opracowanie i omówienie wyników, przygotowanie sprawozdań.

8. Literatura

A. Dziedzic, L. Golonka, B. Licznerski, B. Morten, M. Prudenziati, „Technika
grubowarstwowa i jej zastosowania”, Skrypt, Wrocław 1998