wymaganiai bmp

wymaganiai bmp



3. Roztwory rzeczywiste

nazywaną aktywnością składnika j, którą trzeba wyznaczyć doświadczalnie: fi‘j jest potencjałem chemicznym (molową swobodną entalpią) czystego składnika j.

Równanie (3.20) definiuje aktywnos'ć

“j = exP ^Rjr* = f(T, P,X\, X2-. .apt-i) (3.21)

Aktywnos'ć jest wielkos'cią bezwymiarową; jest ona funkcją temperatury, ciśnienia i składu roztworu.

Wygodnie jest wprowadzić współczynnik aktywności -yj zdefiniowany równaniem

aj

(3.22)

i zastosować go we wzorze (3.20)

a

Pj(T, P, x) = Pj{T, P) + R.T\n Xjjj

(3.23)


Zgodnie z wprowadzonymi definicjami potencjały chemiczne składników 1 i 2 roztworu dwuskładnikowego wyrażają się wzorami:

P\ - P\ + RT\n «i = /u) + RT\n .1771    (3.24)

p-2 =    + RT\a a-2    + RT In i272

Wielkości p\ i /t.) nazywa się potencjałami standardowymi. Są one równe potencjałom chemicznym czystych składników. Stanem standardowym dla każdego składnika jest czysta substancja. Współczynniki aktywności 71 i 72 występujące w równaniach (3.24) nazywa się współczynnikami aktywności w symetrycznym układzie odniesienia.

Ponieważ potencjał chemiczny składnika j w roztworze doskonałym wyraża się wzorem

pf = ftj + RT ln xj

Związek współczynnika aktywności z potencjałami chemicznymi w roztworze rzeczywistym (Pj) i doskonałym (pf) jest następujący:

RT ln 7j = pj - p'f    (3.25)

3.3. Aktywność i współczynnik aktywności

67


Rys. 3.4. Interpretacja geometryczna współczynnika aktywności składnika roztworu w symetrycznym układzie aktywności: a) odchylenia dodatnie, b) odchylenia ujemne


Sens geometryczny współczynnika aktywności pokazano naTys. 3.4. Widać na niin, że RT ln -yj — 0, gdy ln xj —* 0, czyli 7j —>■ 1, gdy x, —> 1. Zatem w układzie dwuskładnikowym

71 —> 1    dla    X; —r I

a także

72 —* 1    dla    x‘2 —> 1

Wzór wyrażający związek między aktywnością składnika aj a jego prężnością cząstkową Pj można wyprowadzić w sposób analogiczny do opisanego w rozdziałach 2.3 i 2.4, zastępując równanie (2.35) równaniem (3.24). Prężność cząstkowa składnika 1 ma następującą postać:

Pi = PC«i exp D\ = Pj\-ri7, exp D\    (3.26)

wielkos'ć Di dana jest wzorem (3.5).    :

Ponieważ wzory (3.24) są symetryczne względem obu składników, wzór na prężność cząstkową składnika 2 jest analogiczny do (3.26)

(3.27)


P-2 = P2*ct-2 exp D-2 = P2 z272 exp D2


Wyszukiwarka

Podobne podstrony:
wymaganiar bmp 3. Roztwory rzeczywiste Rys. 3.24. Wyznaczenie współczynnika aktywności f2 z pomiarów
wymagania? bmp 3. Roztwory rzeczywiste Rys. 3.1. Zależność prężności cząstkowych składników P i Ą or
wymaganiap bmp 3. Roztwory rzeczywiste Analiza przebiegu krzywych potwierdza jakościowo przewidywani
wymaganias bmp 3. Roztwory rzeczywiste 3. Roztwory rzeczywiste ablica 3.6. Prężność pary, skład i ws
wymagania? bmp 3. Roztwory rzeczywiste zatem gdy P = x
wymaganiaP bmp zupełnie znoszą katalityczną aktywnoóó enzymów. Odwracalne zatruwanie enzymów występu
wymaganiaT bmp W stanie równowagi potencjały chemiczne składnika B w obu fazaetf sobie równe (relacj
wymaganiay bmp )2 2. Roztwory doskonale oraz P2 = 0. 5599 ■ 0,4400 = 0,2463 bar. Sumaryczna prężność
wymagania? bmp 2. Roztwory doskonale Po podstawieniu do wzoru (2.51) obliczamy P = 0,3618 • 0.8678 =
wymaganiaq bmp 08 ■i. Roztwory rzeczywiste miczny składnika 2 roztworu niedoskonałego inożena opisać
wymaganiah bmp .64 3. Roztwory rzeczywiste[j 1?>Uc,Vvokj^tu R, U-jWl;ćct kj, w nasyconym roztwo
wymaganiaw bmp 48 2. Roztwory doskonale Wzór (2.33) wiąże potencjały chemiczne składników doskonałej
wymagania? bmp 58 3. Roztwory rzeczywiste Prężność cząstkowa leży w granicach: P, =i,P,-(l±0,01) Z p
scan0002 bmp CZĘŚĆ IZadanie 1. Balsamum peruvianum, często stosowany aktywny składnik różnych postac
wymagania4 bmp 42 Rys. 3. Urządzenie t irbidymetryczne do badanie procesu koagulacji roztworów kolo
wymagania0 bmp warstwa dyfuzyjna Rysunek S.4 Schemat miceli koloidowej Agi, wytrąconego w roztworze
wymagania0 bmp adsorbentu, przy czym proporcje, w jakich składniki te zawarte są w warstw! adsorpcy
wymagania5 bmp 38 4. RÓWNOWAG! ADSORPCYJNE DLA UKŁADU GAZ-CIAŁO STAŁE Dla układów węgiel aktywny-pa
wymagania3 bmp Nr roztworu Stężenie DPC1 [mol/dm3] X [S] X0 [S m-1] Stężenie DDPC1 [mol/dm3] X [S]

więcej podobnych podstron